[发明专利]一种高性能光学薄膜及其制备工艺

权利要求书

1.一种高性能光学薄膜，其特征在于：所述高性能光学薄膜包括基体膜层(1)，所述基体膜层(1)的顶侧依次层叠设置有紫外线吸收模层(2)、抗红外光膜层(3)和耐磨层(4)，所述基体膜层(1)的底侧设置有粘胶层(5)，且所述粘胶层(5)的外侧设置有离型层(6)。

2.如权利要求1所述高性能光学薄膜，其特征在于：所述基体膜层(1)为透明电加热薄膜。

3.如权利要求1所述高性能光学薄膜，其特征在于：所述紫外线吸收层(2)内含有紫外线吸收剂，且紫外线吸收剂的浓度为10％～15％之间，所述紫外线吸收剂可为苯并三唑类、二苯甲酮类、三嗪类、水杨酸酯类和氰代丙烯酸酯类中的任意一种或多种组合物。

4.如权利要求1所述高性能光学薄膜，其特征在于：所述紫外线吸收层(2)的厚度为0.3～8um。

5.如权利要求1所述高性能光学薄膜，其特征在于：所述抗红外光膜层(3)包括依次层叠模压的五氧化三钛膜、二氧化硅膜以及二氧化钛膜。

6.如权利要求1所述高性能光学薄膜，其特征在于：所述抗红外光膜层(3)的厚度为0.2～6um。

7.如权利要求1所述高性能光学薄膜，其特征在于：所述耐磨层(4)为聚甲基丙烯酸甲酯层，且耐磨层(4)的厚度为0.8～10um。

8.一种基于权利要求1～7中任一项的所述高性能光学薄膜的制备工艺，其特征在于：包括如下步骤：

S1、将基体膜层(1)表面清洗干净，然后放入其放入置真空镀膜机；

S2、调节真空镀膜机的真空室内部真空度小于1×10^-3Pa，并对基体膜层(1)进行加热至设定温度，之后保证基体膜层(1)处于恒温状态；

S3、采用物理气相沉积技术在基体膜层(1)的顶侧依次制备吸收模层(2)、抗红外光膜层(3)和耐磨层(4)，直至膜层厚度达到设定值；

S4、待真空镀膜机的真空室冷却至室温后取出镀制好的半成品光学薄膜元件；

S5、在基体膜层(1)的底侧涂覆粘胶层(5)，之后在涂覆粘胶层(5)的外侧覆盖离型层(6)，即制成所需的高性能光学薄膜。