[发明专利]一种制备纳米球形蜂窝结构的方法有效
| 申请号: | 202111665075.8 | 申请日: | 2021-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN114486845B | 公开(公告)日: | 2023-08-04 |
| 发明(设计)人: | 赵晓宇;梁龙杰;温嘉红;刘佳;张坤;孔哲;张永军;王雅新 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/58 |
| 代理公司: | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人: | 杨舟涛 |
| 地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 制备 纳米 球形 蜂窝 结构 方法 | ||
本发明公开了一种制备纳米球形蜂窝结构的方法,本发明是以有序聚苯乙烯小球阵列为基础,使用等离子反应刻蚀的技术控制小球半径,用旋涂的方法将掺杂金属颗粒的PVA胶包裹在小球上,以构筑蜂窝结构从而设计热点强度位置,在利用磁控溅射的方式向样品表面共溅射银、二氧化硅膜,对样品进行化学腐蚀,使之小球内壁的金属纳米颗粒与PVA胶中金属纳米颗粒进行耦合,以提高其SERS强度。最终形成球形蜂窝纳米结构,这种结构设计了样品热点位置精确控制热点分布与强度,增强了其SERS强度。
技术领域
本发明属于周期纳米材料制备技术领域,具体涉及一种制备纳米球形蜂窝结构的研究制备方法。
技术背景
利用磁控溅射、等离子反应刻蚀、旋涂等技术可以实现纳米球形蜂窝结构的制备,对纳米级空腔进行精度设计与加工,使得纳米阵列有序可控,以用于控制热点位置,设计热点强度从而增强SERS强度。
磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。它的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。
表面增强拉曼散射(SERS)技术克服了传统拉曼光谱与生俱来的信号微弱的缺点,可以使得拉曼强度增大几个数量级。其增强因子可以高达1014~1015倍,足以探测到单个分子的拉曼信号,这些都是传统拉曼的灵敏度和测量速度不足以完成的。目前最常用的金属是金和银,但是单层金属膜的SERS强度有限,其测试范围和大小都有很大的局限性。因此,在改进单层金属膜的SERS强度就有很大的意义,在环境监测、食品安全、临床检验及疾病诊断等众多领域中能有充分应用。
发明内容
本发明针对现有技术的不足,提供一种制备纳米球形蜂窝结构的方法。
本发明是以有序聚苯乙烯小球阵列为基础,使用等离子反应刻蚀的技术控制小球半径,用旋涂的方法将掺杂金属颗粒的PVA胶包裹在小球上,以构筑蜂窝结构从而设计热点强度位置,在利用磁控溅射的方式向样品表面共溅射银、二氧化硅膜,对样品进行化学腐蚀,使之小球内壁的金属纳米颗粒与PVA胶中金属纳米颗粒进行耦合,以提高其SERS强度。最终形成球形蜂窝纳米结构。
本结构制备方法的具体步骤如下:
1)处理具有亲水性硅片,制备六方密排的聚苯乙烯小球阵列;
2)使用等离子反应刻蚀技术,将小球半径从500nm刻小成450nm;
3)称量质量比为1%PVA粉末,加入去离子水,放入磁力搅拌子,放在搅拌加热台上,90°高温加热搅拌,至溶液中颗粒全部溶解在水中;1%PVA胶制备完成;
4)利用旋涂机将质量比1%PVA胶旋涂至样品上;
5)使用等离子反应刻蚀技术,调整刻蚀时间,改变球与胶体间隙大小;
6)利用磁控溅射在样品上制作银,二氧化硅共溅射膜;将银靶和二氧化硅靶各自倾斜40度,同时向硅片溅射;
7)用质量比20%氢氟酸做表面化学处理,腐蚀30s,将共溅射中二氧化硅部分腐蚀掉,形成纳米球形蜂窝状结构。
作为优选,处理具有亲水性硅片,该方法具体包括以下步骤:
1a)清洗硅片:用去离子水和无水乙醇分别浸泡干净硅片,再用超声仪超声15min,洗去硅片表面灰层脏污和油渍;将硅片取出来,放置在吸水纸上将残余水分吸干;
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