[发明专利]一种薄膜改性装置和用于工业连续化处理改性系统有效

专利信息
申请号: 202111653723.8 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN114274497B 公开(公告)日: 2022-10-04
发明(设计)人: 祝曦;李劲卓;许金钢;方志 申请(专利权)人: 南京工业大学
主分类号: B29C59/10 分类号: B29C59/10;B29L7/00
代理公司: 南京源古知识产权代理事务所(普通合伙) 32300 代理人: 马晓辉
地址: 211816 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 改性 装置 用于 工业 连续 处理 系统
【权利要求书】:

1.一种薄膜改性装置,包括放电处理单元(003),其特征在于:所述放电处理单元(003)和气体循环单元(001)位于外壳(101)内,并位于中心辊轮上方,外壳(101)下方开口,所述气体循环单元(001)包括第一气体单元(102)和第二气体单元(103),所述第二气体单元(103)包括多个凸形单元组,每个气道组包括对称布置的两个凸形单元,两个所述凸形之间设有第二空隙,所述第一气体单元(102)包括多个L形气道,每个L形式气道和一个凸形单元连接,相邻的L形气道之间设有第一空隙,所述的凸形单元为电极,中心辊轮(201)表面上由内到外依次敷设地电极和第二阻挡介质层,所述中心辊轮(201)能够转动,所述中心辊轮(201)设有动力辊轮,用于固定被处理的薄膜和为薄膜运动提供动力。

2.如权利要求1所述的薄膜改性装置,其特征在于:所述凸形单元包括四层,从内到外依次为铜芯导电层、半导电层、黏着层和第一阻挡介质层。

3.如权利要求2所述的薄膜改性装置,其特征在于:所述第一阻挡介质层和第二阻挡介质层厚度相同。

4.如权利要求2所述的薄膜改性装置,其特征在于:所述半导电层的材质为高压下的良导体材料。

5.如权利要求2所述的薄膜改性装置,其特征在于:所述黏着层的材质为陶瓷、石英、PC、PTFE的一种。

6.如权利要求1-5任一项权利要求所述的薄膜改性装置,其特征在于:所述第二气体单元(103)下表面有和中心辊轮相同的弧度。

7.如权利要求1-5任一项权利要求所述的薄膜改性装置,其特征在于:所述外壳(101)的材质为通用聚合物或金属材料。

8.如权利要求1-5任一项权利要求所述的薄膜改性装置,其特征在于:所述第一空隙为气体出口(104),所述第二空隙为气体入口(105)。

9.如权利要求1-5任一项权利要求所述的薄膜改性装置,其特征在于:还包括动力控制模块(006)、气流控制模块(002)和电气控制模块(004),所述动力辊轮和动力控制模块(006)连接,气流控制模块(002)控制气体进入到气体循环单元(001),电气控制模块(004)为的凸形单元提供电极放电所需的高压脉冲电,所述动力控制模块(006)、气流控制模块(002)和电气控制模块(004)都和单片机连接。

10.一种工业连续化处理改性系统,其特征在于:包括多个如权利要求1-9任一项权利要求所述的薄膜改性装置并排排列,两个相邻的薄膜改性装置的外壳的位置,其中一个在中心辊轮的上方,另一个在中心辊轮的下方,最后排列的薄膜改性装置外设有动力辊轮。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京工业大学,未经南京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111653723.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top