[发明专利]一种电池托盘表面处理方法

说明书

本发明公开了一种电池托盘表面处理方法，其特征在于，对电池托盘表面进行镀氧化物或氮化物膜层处理，包括采用熔融喷涂法制备氧化铝膜层，采用磁控溅射法制备二氧化硅膜层，采用等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅膜层，托盘表面镀上耐高温、耐磨损、耐腐蚀的氧化物或氮化物膜层，延长其使用寿命，且托盘表面镀的氧化物或氮化物膜层不利于ITO等电极膜层的沉积，使表面沉积膜层清洗容易，降低清洗成本，防止物理或化学清洗对托盘造成的损坏。

技术领域

本发明涉及太阳电池领域，尤其涉及一种电池托盘表面处理方法。

背景技术

太阳电池电极制备需要使用托盘来对电池片进行边缘遮挡，防止镀导电膜将电池的正背电极导通，太阳电池的电极制备工艺，需要托盘经过多次的拿取、存放、转运等操作，在生产中托盘需要多次重复使用。

电池生产工艺中会有高温产生，同时等离子体中的离子可能会对托盘产生反应，造成托盘形变及腐蚀等，托盘的多次使用会造成托盘表面的过度磨损，以及托盘部分位置的不均匀磨损，使托盘表面的水平度变差而产生扰镀，镀膜不均匀。托盘使用一定次数后，表面会被镀上一定厚度的膜层，若不清理则会出现爆膜现象，影响镀膜质量，同时托盘的反复清洗也会增加其变形的风险。

发明内容

本发明克服了现有技术的不足，提供一种电池托盘表面处理方法。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案为：一种电池托盘表面处理方法，其特征在于，对电池托盘表面进行镀氧化物或氮化物膜层处理。

本发明一个较佳实施例中，使工艺气体通过压缩电弧进行电离，形成等离子弧，通过等离子弧将氧化铝熔融后，将熔融的氧化铝对托盘进行喷涂。

本发明一个较佳实施例中，所述工艺气体采用氮气、氩气、氢气或氦气。

本发明一个较佳实施例中，接入射频电源，通入一定比例的硅烷与氨气，对托盘进行氮化硅PECVD法镀膜。

本发明一个较佳实施例中，使用硅靶，接入中频电源，通入氩气与氧气的混合气体，对托盘进行二氧化硅膜层磁控溅射制备。

本发明解决了背景技术中存在的缺陷，本发明具备以下有益效果：

1、托盘表面镀上耐高温、耐磨损、耐腐蚀的氧化物或氮化物膜层，延长其使用寿命。

2、托盘表面镀的氧化物或氮化物膜层不利于ITO等电极膜层的沉积，使表面沉积膜层清洗容易，降低清洗成本，防止物理或化学清洗对托盘造成的损坏。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，本发明的描述中，“实施例”、“一个实施例”或“其他实施例”的提及表示结合实施例说明的特定特征、结构或特性包括在至少一些实施例中，但不必是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

一种电池托盘表面处理方法，对托盘表面进行镀氧化物或氮化物膜层处理，使托盘耐高温、耐腐蚀、耐磨损，延长托盘的使用寿命。

需要说明的是，氧化物如氧化铝、二氧化硅等，氮化物如氮化硅，不同的膜层材料使用不同的制备方法。

实施例一

氧化铝膜层采用熔融喷涂法制备。工艺气体例如氮气、氩气、氢气或氦气通过压缩电弧时，气体会产生电离而形成电中性的等离子体，依靠等离子弧的能量把氧化铝熔融来对托盘进行涂层制备。

实施例二

二氧化硅膜层采用磁控溅射法制备。磁控溅射设备使用硅靶，接入中频电源，通入氩气与氧气的混合气体，对托盘进行二氧化硅的膜层制备。

实施例三