[发明专利]一种电池托盘表面处理方法在审
| 申请号: | 202111642403.2 | 申请日: | 2021-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN116426876A | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
| 发明(设计)人: | 马世猛;代智杰;周广福 | 申请(专利权)人: | 上海昶火微电子科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/35;C23C4/134;C23C4/11;C23C16/34;C23C16/505;H01L31/18 |
| 代理公司: | 苏州修合知识产权代理事务所(普通合伙) 32640 | 代理人: | 刘文骞 |
| 地址: | 201306 上海市浦东新区中国(上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电池 托盘 表面 处理 方法 | ||
1.一种电池托盘表面处理方法,其特征在于,对电池托盘表面进行镀氧化物或氮化物膜层处理。
2.根据权利要求1所述的一种电池托盘表面处理方法,其特征在于:使工艺气体通过压缩电弧进行电离,形成等离子弧,通过等离子弧将氧化铝熔融后,将熔融的氧化铝对托盘进行喷涂。
3.根据权利要求2所述的一种电池托盘表面处理方法,其特征在于:所述工艺气体采用氮气、氩气、氢气或氦气。
4.根据权利要求1所述的一种电池托盘表面处理方法,其特征在于:接入射频电源,通入一定比例的硅烷与氨气,对托盘进行氮化硅PECVD法镀膜。
5.根据权利要求1所述的一种电池托盘表面处理方法,其特征在于:使用硅靶,接入中频电源,通入氩气与氧气的混合气体,对托盘进行二氧化硅膜层磁控溅射制备。
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