[发明专利]晶圆电镀治具和晶圆电镀装置在审
| 申请号: | 202111596333.1 | 申请日: | 2021-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN114075685A | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
| 发明(设计)人: | 徐玉鹏;何正鸿;李利;钟磊;张超 | 申请(专利权)人: | 甬矽半导体(宁波)有限公司 |
| 主分类号: | C25D7/12 | 分类号: | C25D7/12;C25D17/06;C25D17/00 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 彭星 |
| 地址: | 315400 浙江省宁*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电镀 装置 | ||
本发明实施例提供的一种晶圆电镀治具和晶圆电镀装置,涉及晶圆电镀技术领域。该晶圆电镀治具包括晶圆存放台、密封圈、导电环和盖板,晶圆存放台用于放置晶圆,密封圈和导电环设于晶圆存放台和盖板之间,盖板与晶圆存放台连接,晶圆存放台上设有第一吸附台,第一吸附台用于吸附紧固第一晶圆。该晶圆电镀治具的密封性更好,有利于提高电镀效果和晶圆电镀质量。
技术领域
本发明涉及晶圆电镀技术领域,具体而言,涉及一种晶圆电镀治具和晶圆电镀装置。
背景技术
现有技术中,晶圆电镀主要使用挂具方式,挂具的盖板利用螺丝紧固,长期的拧紧螺丝存在滑牙等情况,以及晶圆表面在固定时,由于拧紧的受力不均容易导致其密封性不好,从而造成晶圆电镀效果不佳,影响产品质量。
发明内容
本发明的目的在于提供一种晶圆电镀治具和晶圆电镀装置,其能够改善晶圆固定后的密封性能,进而改善晶圆电镀效果,提升产品性能和质量。
本发明的实施例是这样实现的:
第一方面,本发明提供一种晶圆电镀治具,包括晶圆存放台、密封圈、导电环和盖板,所述晶圆存放台用于放置晶圆,所述密封圈和所述导电环设于所述晶圆存放台和所述盖板之间,所述盖板与所述晶圆存放台连接。所述晶圆存放台上设有第一吸附台,所述第一吸附台用于吸附紧固第一晶圆。
在可选的实施方式中,所述盖板与所述晶圆存放台采用压合固定。
在可选的实施方式中,所述盖板套设在所述晶圆存放台上,以实现所述盖板与所述晶圆存放台卡接。
在可选的实施方式中,所述盖板包括第一环形内表面,所述晶圆存放台包括第一环形外表面,所述第一环形内表面套设在所述第一环形外表面上,所述第一环形内表面与所述第一环形外表面相互抵持。
在可选的实施方式中,所述盖板上设有卡槽,所述晶圆存放台上设有与所述卡槽配合的凸块,所述卡槽与所述凸块卡接。
在可选的实施方式中,所述第一吸附台用于存放所述第一晶圆的一侧设有第一吸附槽,在所述盖板与所述晶圆存放台卡接的状态下,所述第一吸附槽用于吸附所述晶圆。
在可选的实施方式中,所述第一吸附槽内设有支撑块,所述支撑块的高度不高于所述第一吸附槽的槽口。
在可选的实施方式中,所述支撑块包括第一支撑块和第二支撑块,所述第一支撑块靠近所述第一吸附槽的侧壁设置,所述第二支撑块设于所述第一吸附槽的中部。
在可选的实施方式中,所述晶圆存放台上设有第一沉台和第二沉台,所述第二沉台高于所述第一沉台,所述第一沉台用于放置所述第一晶圆,所述第二沉台用于安装所述密封圈和所述导电环。
在可选的实施方式中,所述第一沉台设有所述第一吸附台。
在可选的实施方式中,所述第二沉台上设有第一引流口,所述第一引流口用于与外部电镀药水连通。
在可选的实施方式中,所述密封圈或所述导电环设有卡持块,所述卡持块设于所述第一引流口内,以与所述第二沉台卡持。
在可选的实施方式中,所述导电环设于所述密封圈远离所述第一晶圆的一侧,所述密封圈上开设有第一通孔,所述导电环设有所述卡持块,所述卡持块与所述第一通孔的位置相对应,所述卡持块穿过所述第一通孔后与所述第一引流口配合。
在可选的实施方式中,所述晶圆存放台上设有第三沉台,所述第三沉台高于所述第二沉台,所述第三沉台用于放置第二晶圆。
在可选的实施方式中,所述第三沉台上设有第二吸附台,所述第二吸附台上设有第二吸附槽,所述第二吸附槽用于吸附固定所述第二晶圆。
在可选的实施方式中,所述第三沉台上开设有第二引流口,所述第二引流口用于与外部电镀药水连通。
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