[发明专利]一种元器件电极的制作方法

说明书

本发明提供一种元器件电极的制作方法，包括以下步骤：(1)流延铁氧体基材：将铁氧体浆料涂布流延，干燥后形成铁氧体基材；(2)离型膜印刷导电胶：在PET离型膜上，印刷感光导电胶层，加热干燥；(3)掩膜曝光：在干燥后的感光导电胶上方放置电极图形掩膜，通过紫外线照射，使感光导电胶曝光固化变性；(4)冲淋显影：使用显影液冲淋显影，在PET离型膜上形成电极图形；(5)温压转移：将PET离型膜上形成的电极图形在一定的温度和压力的作用下，转移到铁氧体基材上。本发明通过自制铁氧体浆料和感光导电胶及温压转移工艺，解决了铁氧体基材曝光显影制作电极时出现残影、缺损等问题。

技术领域

本发明涉及电子元器件技术领域，具体涉及一种元器件电极的制作方法。

背景技术

现有技术电子元器件电极的制备工艺过程包括以下步骤：配制浆料、流延铁氧体基材、印刷导电胶、掩膜曝光、冲淋显影、然后形成电极。现有技术存在的不足：电极存在严重残影、缺损，无法制作超细线径，电极质量差。

CN105448467A公开了一种电子元器件电极的制作方法，包括以下步骤：(1)流延薄膜生带；(2)在所述薄膜生带上铺感光乳剂；(3)采用了定义了电极图案的掩膜版对所述感光乳剂进行曝光；(4)对所述感光乳剂进行了显影，得到电极图案；(5)按照所述电极图案在所述薄膜生带上形成用于制作电极的电极沟槽；(6)去除铺在所述薄膜生带上的所述感光乳剂；(7)在所述电极沟槽中填充电极浆料，制出电极。该方法仅能制作电极厚且线间距较小的螺线型线圈，不能实现超细线径、无残影、无缺损的电极制作。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的不足之处而提供一种元器件电极的制作方法。

为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：

一种元器件电极的制作方法，包括以下步骤：

(1)流延铁氧体基材：将铁氧体浆料涂布流延，干燥后形成铁氧体基材；

(2)离型膜印刷导电胶：在PET离型膜上，印刷一层感光导电胶，加热干燥；优选地，所述PET离型膜上含有硅油成分；

(3)掩膜曝光：在干燥后的导电胶上方放置电极图形掩膜，使用紫外线进行照射，使感光导电胶曝光固化变性；

(4)冲淋显影：使用显影液冲淋显影，在PET离型膜上形成电极图形；

(5)温压转移：将PET离型膜上形成的电极图形在一定的温度和压力的作用下，转移到铁氧体基材上。

本发明先在PET离型膜上形成电极图形，然后通过温压转移工艺，将电极图形转移到铁氧体基材上，该制作方法解决了铁氧体基材曝光显影制作电极时出现残影、缺损等问题，实现无残影、缺损、超细线径的高质量电极图形。

进一步地，所述步骤(1)中，铁氧体浆料按重量百分含量计，包括以下组分：铁氧体粉末50～60％、PVB树脂5～8％、增塑剂2～5％、分散剂0.5～1％、溶剂10～15％。所述增塑剂可选用邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二丁酯等；所述分散剂可选用多元羧酸型共聚物、改性磷酸酯与天然脂肪酸混合物等；所述溶剂可选用乙醇、异丁醇、醋酸正丙酯等。

发明人通过研究发现，本发明采用上述铁氧体粉料制备的铁氧体基材可以更好的实现高质量电极图形。

进一步地，所述铁氧体粉末为氧化铁、氧化镍、氧化铜、氧化锌的混合物；所述溶剂为醇类或酯类溶剂。

进一步地，所述步骤(1)中，铁氧体基材的厚度为10～50μm。

进一步地，所述步骤(2)中，PET离型膜厚度为40～60μm，所述感光导电胶印刷厚度为5～20μm。更进一步地，PET离型膜厚度为50μm，感光导电胶印刷厚度为10μm。