[发明专利]金属纳米线复合薄膜及其制备方法

说明书

本申请属于材料技术领域，尤其涉及一种金属纳米线复合薄膜及其制备方法。其中，金属纳米线复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：获取金属纳米线墨水后在基板上成膜处理，在所述基板上形成金属纳米线涂层；在所述金属纳米线涂层背离所述基板的表面制备聚硫醇烯基涂层；在所述聚硫醇烯基涂层背离所述金属纳米线涂层的表面制备聚丙烯酸酯涂层，得到金属纳米线复合薄膜。本申请制备方法，工艺简单，制备条件温和，制备的金属纳米线复合薄膜通过高介电性能的聚硫醇烯基涂层和低折射性能的聚丙烯酸酯涂层的协同作用，既能够降低雾度，减少反射增透，降低黄度，还赋予了优异的环境可靠性。

技术领域

本申请属于材料技术领域，尤其涉及一种金属纳米线复合薄膜及其制备方法。

背景技术

金属纳米线透明导电薄膜具有透明性好、方阻低、可弯折等优点，可以应用于液晶调光薄膜、手写板、大尺寸触控和柔性触控领域。与传统的金属氧化物透明导电材料ITO的光学性能相比，金属纳米线有更高的透过率，但是雾度会高于ITO。因为纳米尺寸效应和金属表面等离子体共振效应(surface plasmon resonance，SPR)，金属纳米线在可见光区有较强的吸收和散射，导致雾度较高和耐光照性能差等缺陷，直接影响产品的普及。

目前，通过引入高介电材料改变金属纳米线周边的介电环境，进而抑制金属纳米线的表面等离子体共振效应，减弱吸收和散射。但是高介电材料在抑制SPR效应的同时，高介电的材料往往也会具有高折射率，高达1.7，会提高涂层的反射率，进而导致透过率降低。具有比空气(n＝1)大的折射率(n约1.7)，投射到n约0.7突变界面上的大部分光束都会被反射，会导致反射大量的显示器和环境的光，导致显示图像的眩光和失败。同时，部分高介电材料会带颜色，会增加光损耗，也会影响客户体验。

发明内容

本申请的目的在于提供一种金属纳米线复合薄膜及其制备方法，旨在一定程度上解决现有金属纳米线导电薄膜难以同时具备高导电性、高透过率、低雾度和低黄度的问题。

为实现上述申请目的，本申请采用的技术方案如下：

第一方面，本申请提供一种金属纳米线复合薄膜的制备方法，包括以下步骤：

获取金属纳米线墨水后在基板上成膜处理，在所述基板上形成金属纳米线涂层；

在所述金属纳米线涂层背离所述基板的表面制备聚硫醇烯基涂层；

在所述聚硫醇烯基涂层背离所述金属纳米线涂层的表面制备聚丙烯酸酯涂层，得到金属纳米线复合薄膜。

第二方面，本申请提供一种金属纳米线复合薄膜，包括依次叠层贴合设置的金属纳米线涂层、聚硫醇烯基涂层和聚丙烯酸酯涂层。

本申请第一方面提供的金属纳米线复合薄膜的制备方法，工艺简单，制备条件温和，适用于工业化大规模生产和应用。制备的金属纳米线复合薄膜通过高介电性能的聚硫醇烯基涂层和低折射性能的聚丙烯酸酯涂层的协同作用，既能够降低雾度，减少反射增透，降低黄度，还赋予了优异的环境可靠性。比如耐氙灯照射、耐冷热冲击等。

本申请第二方面提供的金属纳米线复合薄膜通过在初始金属纳米线涂层表面贴合设置具有高介电性能的聚硫醇烯基涂层和低折射性能的聚丙烯酸酯涂层；能有效抑制金属纳米线涂层的表面等离子体效应，减弱对可见光区的吸收和散射，从而降低金属纳米涂层的雾度，同时，提高金属纳米线复合薄膜的抗氙灯照射性能。而聚丙烯酸酯涂层具有低折射性能，可提高复合薄膜的透光率，同时可阻隔水汽侵蚀复合薄膜，提高复合薄膜的稳定性和机械强度。通过高介电性能的聚硫醇烯基涂层和低折射性能的聚丙烯酸酯涂层的协同作用，既能够降低雾度，减少反射增透，降低黄度，还赋予了优异的环境可靠性。比如耐氙灯照射、耐冷热冲击等。

附图说明