[发明专利]一种单轴坐标外推方法

权利要求书

1.一种单轴坐标外推方法，其特征在于，包括：

在单轴载体上选取两个节点，且一个节点为基准点，另一个节点为参考点；

基于ECEF坐标系对所述基准点和所述参考点进行位置标定，以得到ECEF坐标系下所述基准点和所述参考点的位置坐标；

根据ECEF坐标系下所述基准点和所述参考点的位置坐标，获取ENU坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差；

根据ENU坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差，获取ENU坐标系下所述单轴载体上待标定点的位置坐标；以及

根据ENU坐标系下所述待标定点的位置坐标，获取ECEF坐标系下所述待标定点的位置坐标。

2.如权利要求1所述的单轴坐标外推方法，其特征在于，所述根据ECEF坐标系下所述基准点和所述参考点的位置坐标，获取ENU坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差的步骤包括：

根据ECEF坐标系下所述基准点和所述参考点的位置坐标，计算ECEF坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差；

根据ECEF坐标系下所述参考点和所述基准点之间的坐标偏差，获取ENU坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差。

3.如权利要求2所述的单轴坐标外推方法，其特征在于，ECEF坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差采用如下公式进行计算：

(dx₁,dy₁,dz₁)＝(x₁-x₀，y₁-y₀，z₁-z₀)

其中，(dx₁,dy₁,dz₁)表示ECEF坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差；(x₀,y₀,z₀)表示ECEF坐标系下所述基准点的位置坐标；(x₁,y₁,z₁)表示ECEF坐标系下所述参考点的位置坐标。

4.如权利要求3所述的单轴坐标外推方法，其特征在于，ENU坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差采用如下公式进行计算：

其中，(ΔE,ΔN,ΔU)表示ENU坐标系下所述参考点与所述基准点之间的坐标偏差；λ₀和φ₀分别表示WGS-84坐标系下所述基准点(x₀,y₀,z₀)的纬度和经度。

5.如权利要求4所述的单轴坐标外推方法，其特征在于，所述根据ENU坐标系下所述待标定点的位置坐标，获取ECEF坐标系下所述待标定点的位置坐标的步骤包括：

根据ENU坐标系下所述待标定点的位置坐标，获取ECEF坐标系下所述待标定点与所述基准点之间的坐标偏差；

根据ECEF坐标系下所述待标定点与所述基准点的坐标偏差，得到所述待标定点的位置坐标。

6.如权利要求5所述的单轴坐标外推方法，其特征在于，ECEF坐标系下所述待标定点与所述基准点之间的坐标偏差采用如下公式进行计算：

其中，(dx_i,dy_i,dz_i)表示ECEF坐标系下第i个待标定点与所述基准点之间的坐标偏差；(i·ΔE,i·ΔN,i·ΔU)表示ENU坐标系下第i个待标定点的位置坐标。

7.如权利要求6所述的单轴坐标外推方法，其特征在于，ECEF坐标系下所述待标定点的位置坐标采用如下公式进行计算：

(x_i,y_i,z_i)＝(x₀+dx_i，y₀+dy_i，z₀+dz_i)

其中，(x_i,y_i,z_i)表示ECEF坐标系下第i个待标定点的位置坐标。