[发明专利]一种带隙基准、芯片、电子器件及电子设备在审

专利信息
申请号: 202111535892.1 申请日: 2021-12-15
公开(公告)号: CN114265462A 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 聂海英;刘勇江;顾艺 申请(专利权)人: 成都海光微电子技术有限公司
主分类号: G05F1/56 分类号: G05F1/56
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 周春霞
地址: 610000 四川省成都市高新区中国(四川)自由贸易试*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 基准 芯片 电子器件 电子设备
【说明书】:

本申请提供一种带隙基准、芯片、电子器件及电子设备,包括:基准核心电路,所述基准核心电路包括PTAT电流产生模块;所述PTAT电流产生模块用于产生PTAT电流;启动电路,与所述基准核心电路连接,用于启动所述基准核心电路;电流检测模组,分别与所述启动电路和所述PTAT电流产生模块连接,用于在检测到所述PTAT电流产生模块产生PTAT电流之后,控制所述启动电路关断。上述方案可以有效避免启动电路在脱离简并区之前被提前关断,并可降低启动电路不能正常关断的风险。

技术领域

本申请涉及电子电路技术领域,具体而言,涉及一种带隙基准、芯片、电子器件及电子设备。

背景技术

带隙基准具有低噪声、低温度系数和高电源抑制比的优点,广泛地应用于电源管理、模数/数模转换、射频和传感器等芯片中。带隙基准分为电流模式带隙基准和电压模式带隙基准。

电流模式带隙基准的电路结构可以如图1所示,可在接近1V的电源电压下工作并且可得到任意值的基准电压,满足芯片电压需求。

电流模式带隙基准主要由PMOS(P-Metal Oxide Semiconductor,P型金属氧化物半导体)管MP0~MP2、运算放大器OP、NPN三极管Q1~Q2和电阻R1~R4组成。其中,PMOS管MP0、MP1大小相同,电阻R2与R3相同,Q1和Q2大小不同。其中,运算放大器、MP0~MP1、Q1~Q2和电阻R1~R3组成电流模式带隙基准的基准核心电路,MP2和R4组成基准电压产生电路。MP2可以根据电压输出要求设计与MP0成一定比例,例如,MP2与MP0可以完全相等。

正常工作时,运算放大器OP和MP0~MP1的负反馈使VA和VB处的电压相等,电阻R3双端电压等于VBE_Q1(即三极管Q1的基极-发射极电压),电阻R2和R3上产生相同大小的CTAT(complementary to absolute temperature,与绝对温度成互补)的电流;电阻R1双端电压等于Q1的VBE_Q1和Q2的VBE_Q2(即三极管Q2的基极-发射极电压)电压差delt_VBE,Q1和Q2上产生相同大小的PTAT(proportional to absolute temperature,与绝对温度成正比)的电流。PTAT电流和CTAT电流在MP0叠加,MP2将叠加后的电流镜像并注入到电阻R4,最终输出的基准电压VREF如下式(1)所示:

VREF=IOP_MP0*R4=(IQ1+IR2)*R4=delt_VBE*(R4/R1)+VBE_Q1*(R4/R3) 式(1)

其中,IOP_MP0为MP0叠加后的电流,IQ1为PTAT电流,IR2为CTAT电流。

当MP0和MP1电流较小时,VAVBE_Q1,VBVBE_Q2,Q1和Q2均处于截止区,MP0电流全部流过电阻R2,MP1电流全部流过电阻R3。由于MP0和MP1完全相同且R2和R3完全相同,VA和VB保持相等,VA=VBVBE_Q1,电流模式带隙基准将在该电流下持续稳定工作。如图2所示,当MP0和MP1电流为0~I0范围内任意电流值时,电流模式带隙基准均可持续稳定工作,但是输出的基准电压如式(2)所示,远低于式(1),这种稳定的非正常工作点称简并点(Degeneracy point),将0~I0这段区间称为简并区(Degeneracy region)。需要说明的是,图2中IOP所对应的点为带隙基准的正常工作点(或稳定工作点)。

VREF=(VA/R3)*R4(VBE_Q1/R3)*R4=VBE_Q1*(R4/R3) 式(2)

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