[发明专利]确定传送机械手是否正常的系统和方法及基板处理装置在审

专利信息
申请号: 202111528599.2 申请日: 2021-12-14
公开(公告)号: CN114649237A 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 金贤俊 申请(专利权)人: 细美事有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 张凯
地址: 韩国忠清南道天安*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 确定 传送 机械手 是否 正常 系统 方法 处理 装置
【说明书】:

本发明涉及确定传送机械手是否正常的系统和方法及基板处理装置。公开了一种包括用于传送基板的传送腔室的基板处理装置。传送腔室可以包括手部,基板放置在该手部上;臂部,该臂部连接至手部;第一构件,该第一构件支承手部和臂部、且移动以传送基板;第二构件,该第二构件支承第一构件;传感器检测构件,该传感器检测构件附接到第一构件;传感器构件,该传感器构件附接到第二构件;和确定单元,该确定单元通过传感器检测构件与传感器构件之间的距离来确定在传送腔室中传送是否正常。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2020年12月18日提交韩国知识产权局的、申请号为10-2020-0178380的韩国专利申请的优先权和权益,其全部内容通过引用结合在本申请中。

技术领域

本文描述的发明构思的实施方案涉及一种用于确定传送机械手是否正常的系统、一种用于确定传送机械手是否正常的方法、以及一种基板处理装置。

背景技术

为了制造半导体设备或液晶显示器,在基板上执行各种工艺,诸如光刻工艺、蚀刻工艺、灰化工艺、离子注入工艺、薄膜沉积工艺和清洁工艺。其中,光刻工艺是在基板上形成期望电路图案的工艺,在光刻工艺中依次执行施用工艺、曝光工艺和显影工艺。在施用工艺中,将诸如光刻胶的感光液施用到基板上;在曝光工艺中,在基板上曝光电路图案,感光膜形成在该基板上;以及在显影工艺中,基板上的曝光区域被选择性地显影。此外,在基板上的蚀刻工艺或清洁工艺中,大致且依次地执行化学处理操作、冲洗处理操作和干燥处理操作。在化学处理操作中,用于蚀刻形成在基板上的薄膜或去除基板上的异物的化学品被供应到基板,且在冲洗处理操作中,诸如纯水的冲洗液体被供应到基板上。基板处理装置通过传送机械手将基板从一个位置传送到另一位置。

然而,在传送机械手的操作过程中可能会出现各种问题。操作过程中可能出现的问题之一是:在传送机械手的操作过程中,由于轴线未对准或测量参考点的传感器故障而导致硬件参考点未对准,晶圆在与各教导单元(taught unit)的目标点未对准的情况下被传送,因此水不能被精确地输送。另一个问题是:传送机械手测量晶圆的位置,通过未对准的量来校正位置,并且将晶圆放置在单元的目标点上,在这种情况下,当测量晶圆的传感器未对准时,由于参考点的未对准程度而产生错误,因此晶圆被错误地安置在单元中。

因此,需要一种用于预先识别和检测上述问题的装置和方法。

发明内容

本发明构思的实施方案提供了一种能够周期性地确定传送机械手是否正常的系统。

本发明构思所要解决的问题不限于上述的问题。本发明构思所属领域的技术人员可以从以下描述清楚地理解未提及的其他技术问题。

公开了根据本发明构思的实施例的能够确定传送基板的传送机械手是否正常的确定系统。

根据实施例,系统包括传感器检测构件,所述传感器检测构件附接到移动构件以传送所述基板;传感器构件,所述传感器构件附接到支承构件,所述支承构件支承所述移动构件以传送所述基板;和确定单元,所述确定单元通过所述传感器检测构件与所述传感器构件之间的距离来确定所述传送机械手是否正常。

根据实施例,用于传送所述基板的所述移动构件可以通过电机(motor)驱动,并且,所述确定单元可以使用所述电机的Z相位(Z phase)确定所述传送机械手是否正常。

根据实施例,所述确定单元可以将在所述传感器构件中检测到所述传感器检测构件的位置设定为第一位置,并将所述移动部件通过所述电机的Z相位从所述第一位置移动的位置设定为第二位置。

根据实施例,所述确定单元可以基于所述第二位置与所述第一位置之间的差值确定所述传送机械手是否正常。

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