[发明专利]一种低析出聚酯薄膜及其制备方法

说明书

一种低析出聚酯薄膜，所述聚酯薄膜包括聚酯基膜和涂布在所述聚酯基膜表面的低析出涂层，所述低析出涂层为水溶性涂布液经涂布、固化得到，一百质量分数的所述水溶性涂布液包括4‑12质量份数的水溶性树脂、85‑95质量份数的去离子水、0.5‑3质量份数的交联剂和0.1‑0.3质量份数的表面活性剂。本发明在聚酯基膜上涂布低析出涂层，有效减少聚酯基膜内部低分子量物质的析出，防止聚酯薄膜在后续的加工过程中透光率下降和雾度增加。

技术领域

本发明涉及一种低析出聚酯薄膜及其制备方法，属于高分子材料技术领域。

背景技术

聚酯薄膜在其生产和使用过程中，因加工工艺会造成低分子量物质析出。这些低分子量物质析出主要由以下四个方面造成的：1、聚酯薄膜主要采用熔融共挤的方式生产，在挤出过程中，挤出机的温度较高，聚酯切片分子链会发生断裂产生低分子量链段；2、使用回收料会导致较多的低分子量链段产生；3、为了提高被贴合物质的附着力，聚酯薄膜需要进行电晕处理，电晕处理过程中聚酯分子容易降解成低分子量物质；4、聚酯薄膜使用过程中基本都要经过老化测试，高温高湿的测试环境会加速低分子量物质的产生和析出。这些低分子量物质从聚酯薄膜内部迁移到表面，导致聚酯薄膜表面产生发白、模糊等现象，造成聚酯薄膜的透光率下降，雾度增加，严重影响薄膜的使用。特别是当聚酯薄膜作为ITO导电膜的基膜或者作为高温保护膜时，低分子物质在薄膜表面析出将污染相关部件，甚至工作环境。

在现有技术中，可以通过控制聚酯切片合成工艺，制备低析出聚酯切片，避免低分子量物质产生，但工艺复杂，成本较高。也有通过在聚酯薄膜的两侧增加涂层的方式来改善析出的问题。例如申请号为201911127311.3的发明专利，通过在聚酯薄膜两侧涂布含有不同基团的第一硅烷和第二硅烷的双组分，经烘干得到低析出的聚酯薄膜。但是该技术在实现过程中使用的涂料含有大量有机溶剂，对环境不友好。

发明内容

本发明为克服现有技术弊端，提供一种低析出聚酯薄膜及其制备方法，在聚酯基膜上涂布低析出涂层，有效减少聚酯基膜内部低分子量物质的析出，防止聚酯薄膜在后续的加工过程中透光率下降和雾度增加。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种低析出聚酯薄膜，所述聚酯薄膜包括聚酯基膜和涂布在所述聚酯基膜表面的低析出涂层，所述低析出涂层为水溶性涂布液经涂布、固化得到，一百质量分数的所述水溶性涂布液包括4-12质量份数的水溶性树脂、85-95质量份数的去离子水、0.5-3质量份数的交联剂和0.1-0.3质量份数的表面活性剂。

上述低析出聚酯薄膜，所述水溶性树脂为水性聚氨酯、水性丙烯酸酯或水性聚酯中的一种或多种。

上述低析出聚酯薄膜，所述交联剂为异氰酸酯类、多功能碳化二亚胺类、多官能团氮丙啶中的一种或多种。

上述低析出聚酯薄膜，所述表面活性剂为十二烷基磺酸钠、二丁基萘磺酸钠和改性聚硅氧烷中的一种或多种。

上述低析出聚酯薄膜，所述低析出涂层的涂层厚度为0.1-5μm，涂布在所述聚酯基膜的单面或双面。

上述低析出聚酯薄膜，所述聚酯基膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜和聚碳酸酯薄膜中的一种。

一种低析出聚酯薄膜的制备方法，所述制备方法为将水溶性涂布液均匀涂覆在所述聚酯基膜的表面，在120℃下热烘1min，得到低析出聚酯薄膜。

上述低析出聚酯薄膜的制备方法，所述水溶性涂布液在聚酯基膜拉伸前或拉伸后进行涂布。

上述低析出聚酯薄膜的制备方法，所述涂布包括但不仅限于辊涂、喷涂、丝棒涂布、狭缝涂布、刮刀涂布、挤压涂布或微凹版涂布的方式。

本发明的有益效果是：