[发明专利]一种低析出聚酯薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种低析出聚酯薄膜，其特征在于：所述聚酯薄膜包括聚酯基膜和涂布在所述聚酯基膜表面的低析出涂层，所述低析出涂层为水溶性涂布液经涂布、固化得到，一百质量分数的所述水溶性涂布液包括4-12质量份数的水溶性树脂、85-95质量份数的去离子水、0.5-3质量份数的交联剂和0.1-0.3质量份数的表面活性剂。

2.根据权利要求1所述的低析出聚酯薄膜，其特征在于：所述水溶性树脂为水性聚氨酯、水性丙烯酸酯或水性聚酯中的一种或多种。

3.根据权利要求2所述的低析出聚酯薄膜，其特征在于：所述交联剂为异氰酸酯类、多功能碳化二亚胺类和多官能团氮丙啶中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的低析出聚酯薄膜，其特征在于：所述表面活性剂为十二烷基磺酸钠、二丁基萘磺酸钠和改性聚硅氧烷中的一种或多种。

5.根据权利要求4所述的低析出聚酯薄膜，其特征在于：所述低析出涂层的涂层厚度为0.1-5μm，涂布在所述聚酯基膜的单面或双面。

6.根据权利要求5所述的低析出聚酯薄膜，其特征在于：所述聚酯基膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜和聚碳酸酯薄膜中的一种。

7.一种权利要求1-6任一项所述的低析出聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法为将水溶性涂布液均匀涂覆在所述聚酯基膜的表面，在120℃下热烘1min，得到低析出聚酯薄膜。

8.根据权利要求7所述的低析出聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：所述水溶性涂布液在聚酯基膜拉伸前或拉伸后进行涂布。

9.根据权利要求8所述的低析出聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：所述涂布包括但不仅限于辊涂、喷涂、丝棒涂布、狭缝涂布、刮刀涂布、挤压涂布或微凹版涂布的方式。