[发明专利]带有磁致应变源的GeSn发光二极管及其制备方法在审
| 申请号: | 202111517799.8 | 申请日: | 2021-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN115548185A | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
| 发明(设计)人: | 张庆芳;陈芊羽;张吉涛;卢温翔;曹玲芝 | 申请(专利权)人: | 郑州轻工业大学 |
| 主分类号: | H01L33/12 | 分类号: | H01L33/12 |
| 代理公司: | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人: | 高为宝 |
| 地址: | 450000 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 带有 应变 gesn 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
1.带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,包括由下至上依次设置的衬底层(101)、驰豫层(102)和有源区,所述有源区包括由下至上依次设置的n+型层(103)、本征层(104)和p+型层(105);
所述驰豫层(102)和有源区的材料均为GeSn;
所述有源区为空心结构,且有源区内设置有应变源(107),应变源(107)底部延伸至驰豫层(102),应变源(107)周围及底面用绝缘层(106)以隔离其与有源区和驰豫层(102)的接触;
所述应变源(107)的材料为超磁致伸缩材料;
所述有源区顶部设置第一金属电极(108),所述驰豫层(102)上设置第二金属电极(109)。
2.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述有源区为空心圆柱形,应变源(107)呈圆柱形。
3.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述衬底层(101)为GeOI衬底层,所述驰豫层(102)为磷重掺杂的n+型GeSn驰豫层,所述绝缘层(106)为SiO2绝缘薄膜。
4.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述有源区所采用的GeSn材料通式为Ge1-
5.根据权利要求4所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述驰豫层(102)为磷重掺杂Ge1-
6.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述应变源(107)采用超磁致伸缩材料Tb
7.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述有源区顶部的第一金属电极(108)为环形;第二金属电极(109)与弛豫层(102)接触,第二金属电极(109)的高度不超过n+型层(103)。
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