[发明专利]带有磁致应变源的GeSn发光二极管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111517799.8 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN115548185A 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 张庆芳;陈芊羽;张吉涛;卢温翔;曹玲芝 申请(专利权)人: 郑州轻工业大学
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12
代理公司: 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 代理人: 高为宝
地址: 450000 *** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 带有 应变 gesn 发光二极管 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,包括由下至上依次设置的衬底层(101)、驰豫层(102)和有源区,所述有源区包括由下至上依次设置的n型层(103)、本征层(104)和p型层(105);

所述驰豫层(102)和有源区的材料均为GeSn;

所述有源区为空心结构,且有源区内设置有应变源(107),应变源(107)底部延伸至驰豫层(102),应变源(107)周围及底面用绝缘层(106)以隔离其与有源区和驰豫层(102)的接触;

所述应变源(107)的材料为超磁致伸缩材料;

所述有源区顶部设置第一金属电极(108),所述驰豫层(102)上设置第二金属电极(109)。

2.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述有源区为空心圆柱形,应变源(107)呈圆柱形。

3.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述衬底层(101)为GeOI衬底层,所述驰豫层(102)为磷重掺杂的n型GeSn驰豫层,所述绝缘层(106)为SiO2绝缘薄膜。

4.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述有源区所采用的GeSn材料通式为Ge1-xSnx,n型层(103)为磷重掺杂Ge1-xSnx材料,本征层(104)采用Ge1-xSnx材料,p型层(105)采用硼重掺杂Ge1-xSnx材料,其中0.8≤x≤1.5。

5.根据权利要求4所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述驰豫层(102)为磷重掺杂Ge1-ySny材料,其中,yx

6.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述应变源(107)采用超磁致伸缩材料TbmDy1-mFen,其中0.2≤m≤0.3,1.92≤n≤1.95。

7.根据权利要求1所述的带有磁应变源的GeSn发光二极管,其特征在于,所述有源区顶部的第一金属电极(108)为环形;第二金属电极(109)与弛豫层(102)接触,第二金属电极(109)的高度不超过n型层(103)。

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