[发明专利]一种蚀刻液

权利要求书

1.一种蚀刻液，其特征在于，包括以下组分：

12～22％质量百分比的过氧化氢；

0.5～4％质量百分比的鳌合剂；

0.1～2.5％质量百分比的蚀刻抑制剂；

0.1～5％质量百分比的蚀刻剂；

0.01～2％质量百分比的除残剂；以及

溶剂。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述鳌合剂包括亚氨基二乙酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙基内硝基乙酸、氨基三亚(甲基磷酸)、(1-羟基乙烷-1,1-二烯化合物)双(磷酸)、乙基二胺四(甲基磷酸)、二亚乙基三胺五(甲基磷酸)、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸或甘氨酸。

3.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述鳌合剂的质量百分比为1.5～3％。

4.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻抑制剂包括唑类化合物。

5.根据权利要求4所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻抑制剂包括3-氨基-1,2,3-三唑、4-1,2,3-三唑、4-氨基-1,2,4-三唑、5-甲基四唑、5-氨基四唑、咪唑或吡唑。

6.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻抑制剂的质量百分比为0.3～1.0％。

7.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻剂包括磷酸、亚磷酸、次磷酸或焦磷酸。

8.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述除残剂的质量百分比为0.1～1.0％。

9.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述除残剂包括具有Al²⁺、Mg²⁺、Na⁺、K⁺、Li⁺的硫酸盐、硝酸盐或柠檬酸盐。

10.根据权利要求9所述的蚀刻液，其特征在于，所述除残剂包括LiSO₄、LiNO₃、MgSO₄或MgNO₃。