[发明专利]一种高分子材料的颜色荧光强度的测定方法及装置在审
| 申请号： | 202111505407.6 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN114323282A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 陈成辉;邓彬彬;肖培林;李剑平;蔡鹏飞 | 申请（专利权）人： | 福建华塑新材料有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/46 | 分类号： | G01J3/46;G01J3/28 |
| 代理公司： | 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 | 代理人： | 陈秀琴 |
| 地址： | 363900 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高分子材料 颜色 荧光 强度 测定 方法 装置 | ||
1.一种高分子材料的颜色荧光强度的测定方法，其特征在于，包括步骤：
S1、分别获取紫外光条件下和排出紫外光条件下待测材料的颜色光谱曲线；
S2、分别对两个光谱曲线做图，并标识两个曲线相交位置的坐标；
S3、利用微积分法分别计算两个坐标区域内两个曲线的面积；
S4、根据计算得到的两个曲线的面积的大小判断所述待测材料的颜色荧光强度。
2.根据权利要求1所述的高分子材料的颜色荧光强度的测定方法，其特征在于，步骤S1具体为：
利用含紫外光的风光测色仪，在紫外光条件下和排出紫外光条件下待测材料的颜色光谱曲线。
3.根据权利要求1所述的高分子材料的颜色荧光强度的测定方法，其特征在于，步骤S2具体为：
以波长为横坐标，以反射率为纵坐标，对两个光谱曲线做图，并标识两个曲线相交位置分别为A1和A2。
4.根据权利要求3所述的高分子材料的颜色荧光强度的测定方法，其特征在于，步骤S3具体为：
利用微积分法分别计算紫外灯条件下和排出紫外灯条件下，A1至A2区间内两个颜色光谱曲线面积。
5.根据权利要求1所述的高分子材料的颜色荧光强度的测定方法，其特征在于，步骤S4具体为：
根据计算得到的两个曲线的面积的差值大小判断所述待测材料的颜色荧光强度。
6.一种高分子材料的颜色荧光强度的测定装置，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述程序时实现以下步骤：
S1、分别获取紫外光条件下和排出紫外光条件下待测材料的颜色光谱曲线；
S2、分别对两个光谱曲线做图，并标识两个曲线相交位置的坐标；
S3、利用微积分法分别计算两个坐标区域内两个曲线的面积；
S4、根据计算得到的两个曲线的面积的大小判断所述待测材料的颜色荧光强度。
7.根据权利要求6所述的高分子材料的颜色荧光强度的测定装置，其特征在于，步骤S1具体为：
利用含紫外光的风光测色仪，在紫外光条件下和排出紫外光条件下待测材料的颜色光谱曲线。
8.根据权利要求6所述的高分子材料的颜色荧光强度的测定装置，其特征在于，步骤S2具体为：
以波长为横坐标，以反射率为纵坐标，对两个光谱曲线做图，并标识两个曲线相交位置分别为A1和A2。
9.根据权利要求8所述的高分子材料的颜色荧光强度的测定装置，其特征在于，步骤S3具体为：
利用微积分法分别计算紫外灯条件下和排出紫外灯条件下，A1至A2区间内两个颜色光谱曲线面积。
10.根据权利要求6所述的高分子材料的颜色荧光强度的测定装置，其特征在于，步骤S4具体为：
根据计算得到的两个曲线的面积的差值大小判断所述待测材料的颜色荧光强度。
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