[发明专利]一种局部镀膜散热片加工方法在审

专利信息
申请号: 202111451934.3 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN114134474A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 张于光;郭明哲;胡玮;吴玉红 申请(专利权)人: 联德电子科技(常熟)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/04;C23C14/16;C23C14/24;C23C14/32
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 闫露露
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 局部 镀膜 散热片 加工 方法
【说明书】:

发明提供一种局部镀膜散热片加工方法,包括以下步骤:步骤(1).将需要镀膜的金属产品放置在气密箱内;步骤(2).通过电子在电场作用下跟氩原子发生碰撞产生的正离子和新电子,氩正离子以高能量抨击靶表面,将指定的金属镀材并从其表面分离出金属镀材的原子或分子,抨击散射出的靶沉积在散热片表面形成的薄膜;步骤(3).在金属镀膜空间外侧设有位置控制磁场,控制镀膜方向和位置。本发明方法纯机器操作过程方便控制,镀膜速率连续稳定,镀膜方向可调整具有指向性,需要哪面电镀就可哪面电镀,没有废气废水产生。

技术领域

本发明涉及金属镀膜技术领域,具体为一种局部镀膜散热片加工方法。

背景技术

电镀在现代工业中是必不可少的,为了提高产品的可焊性、耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用,对塑胶和金属表面做一层电镀。常用的电镀处理都是专业设备用浸泡的方式,这种方式整个产品就全部被电镀了。一来对于散热行业的散热片来说,只需电镀接触面即可,其它地方电镀显然浪费;二来电镀产生的废水、废气对人体和环境的危害极大浸泡式整体电镀的方式既费时费力,又不环保。

发明内容

本发明所解决的技术问题在于提供一种局部镀膜散热片加工方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

本发明所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:一种局部镀膜散热片加工方法,包括以下步骤:

步骤(1).将需要镀膜的金属产品放置在气密箱内,抽真空通氩气;

步骤(2).通过电子在电场作用下跟氩原子发生碰撞产生的正离子和新电子,氩正离子以高能量抨击靶表面,将指定的金属镀材并从其表面分离出金属镀材的原子或分子,抨击散射出的靶沉积在散热片表面形成的薄膜;

步骤(3).在金属镀膜空间外侧设有位置控制磁场,控制镀膜方向和位置。

所述需要镀膜的金属产品材质为铜、铁、铝、镁、不锈钢及其合金中的一种。

所述金属镀材为铜锌、锡、镍、银、金中的一种。

所述分离方式为蒸发镀、离子镀、磁控溅射中的一种。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明方法纯机器操作过程方便控制,镀膜速率连续稳定,镀膜方向可调整具有指向性,需要哪面电镀就可哪面电镀,没有废气废水产生。

具体实施方式

为了使本发明的实现技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,进一步阐述本发明,在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以两个元件内部的连通。

实施例1

一种局部镀膜散热片加工方法,包括以下步骤:

步骤(1).将需要镀膜的金属产品放置在气密箱内,抽真空通氩气;

步骤(2).通过电子在电场作用下跟氩原子发生碰撞产生的正离子和新电子,氩正离子以高能量抨击靶表面,将指定的金属镀材并从其表面分离出金属镀材的原子或分子,抨击散射出的靶沉积在散热片表面形成的薄膜;

步骤(3).在金属镀膜空间外侧设有位置控制磁场,控制镀膜方向和位置。

所述需要镀膜的金属产品材质为铜、铁,所述金属镀材为铜、锌。

实施例2

一种局部镀膜散热片加工方法,包括以下步骤:

步骤(1).将需要镀膜的金属产品放置在气密箱内,抽真空,通氩气;

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