[发明专利]一种局部镀膜散热片加工方法在审
| 申请号： | 202111451934.3 | 申请日： | 2021-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN114134474A | 公开（公告）日： | 2022-03-04 |
| 发明（设计）人： | 张于光;郭明哲;胡玮;吴玉红 | 申请（专利权）人： | 联德电子科技（常熟）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/04;C23C14/16;C23C14/24;C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京化育知识产权代理有限公司 11833 | 代理人： | 闫露露 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 局部 镀膜 散热片 加工 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种局部镀膜散热片加工方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤(1).将需要镀膜的金属产品放置在气密箱内，抽真空，通氩气；
步骤(2).通过电子在电场作用下跟氩原子发生碰撞产生的正离子和新电子，氩正离子以高能量抨击靶表面，将指定的金属镀材并从其表面分离出金属镀材的原子或分子，抨击散射出的靶沉积在散热片表面形成的薄膜；
步骤(3).在金属镀膜空间外侧设有位置控制磁场，控制镀膜方向和位置。
2.根据权利要求1所述的一种局部镀膜散热片加工方法，其特征在于：所述需要镀膜的金属产品材质为铜、铁、铝、镁、不锈钢及其合金中的一种。
3.根据权利要求1所述的一种局部镀膜散热片加工方法，其特征在于：所述金属镀材为铜、锌、锡、镍、银、金中的一种。
4.根据权利要求1所述的一种局部镀膜散热片加工方法，其特征在于：所述分离方式为蒸发镀、离子镀、磁控溅射中的一种。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于联德电子科技（常熟）有限公司，未经联德电子科技（常熟）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111451934.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
