[发明专利]一种磁控溅射Low-E膜

说明书

本发明公开了一种磁控溅射Low‑E膜，涉及膜材料领域。本发明包括基膜层、剥离层、防刮层，通过剥离层剥离后由安装胶层与玻璃表面相贴进行贴膜；基膜与复合胶之间依次设置有热反射镀膜层、Low‑E镀膜层；Low‑E镀膜层采用至少一层镀银的方式形成具有较低辐射率的膜层；热反射镀膜层采用磁控溅射的方法镀至少一层金属化合物薄膜；由各层相互复合形成具有高透型、遮阳型或双银低辐射型的磁控溅射Low‑E膜。本发明能够根据需要获取高透光性、高遮阳性、低辐射透过性或者高可见光透过性及低太阳能透过率的性能，大大提高了膜使用的效率，综合效能由于普通的热反射镀膜玻璃；相对于现有的Low‑E玻璃更方便实用，便捷高效。

技术领域

本发明属于膜材料领域，特别是涉及一种磁控溅射Low-E膜。

背景技术

热反射膜，又称为阳光控制镀膜，薄膜的主要功能是能够按照所需比例，有效控制太阳直接辐射能红外线780-2300nm近红外光的入射量，具有能够对室内和建筑结构体的遮蔽作用，较理想的可见光穿透率和反射率，减弱紫外光的透过性等优良特征，遮阳系数低，隔热好，传热系数高，保温性能差。

低辐射镀膜又称为Low-E膜，Low-E薄膜具有极低的辐射率，能够对波长大于2500nm的远红外线具有极高的反射率，因此具有极为优良的保温性能，遮阳系数高，隔热差，传热系数低，保温性能好。

现有均采用的是直接在玻璃表面进行镀膜，形成镀膜玻璃，而不是提供一种可便捷式粘贴的膜材料，使适应各种不同玻璃的性能变化需求。因此，针对以上问题，本发明提供了一种磁控溅射Low-E膜使能够满足玻璃表面在不使用Low-E玻璃的情况下通过贴膜的形式实现高透、遮阳和双银Low-E性能的要求。

发明内容

本发明提供了一种磁控溅射Low-E膜，解决了以上问题。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明的一种磁控溅射Low-E膜，包括基膜层、设置于基膜层一侧且通过安装胶层相连的剥离层、设置于基膜层另一侧且通过复合胶相连的防刮层，通过剥离层剥离后由安装胶层与玻璃表面相贴进行贴膜；

所述基膜与复合胶之间依次设置有热反射镀膜层、Low-E镀膜层；所述Low-E镀膜层采用至少一层镀银的方式形成具有较低辐射率的膜层；所述热反射镀膜层采用磁控溅射的方法镀至少一层金属化合物薄膜；

由各层相互复合形成具有高透型、遮阳型或双银低辐射型的磁控溅射Low-E膜。

进一步地，所述Low-E镀膜层包括OPP膜层以及镀银层，所述OPP膜层与热反射镀膜层之间通过复合胶热压复合；所述镀银层的厚度在5-20nm之间，所述OPP膜层的厚度在25-80μm。

进一步地，所述高透型的磁控溅射Low-E膜对应的热反射镀膜层的复合面由内至外依次为：第一层为氧化锌：厚度20-30nm，第二层为氧化镍铬：厚度10-15nm，第三层为银：厚度10-15nm，第四层为氧化钛：厚度15-25nm，第五层为氮化硅：厚度30-40nm；此时，所述基膜层采用高透型的PET高清膜，厚度为20-60μm；所述高透型的磁控溅射Low-E膜对应的OPP膜层采用高透型OPP高清膜，厚度为20-50μm。

进一步地，所述遮阳型的磁控溅射Low-E膜对应的热反射镀膜层的复合面由内至外依次为：第一层为氧化锌：厚度30-60nm，第二层为氧化镍铬：厚度20-35nm，第三层为银：厚度10-15nm，第四层为氧化钛：厚度10-20nm，第五层为氮化硅：厚度50-80nm；此时，所述基膜层采用磨砂型PET膜，厚度为30-85μm；所述遮阳型的磁控溅射Low-E膜对应的OPP膜层采用采用磨砂型OPP膜，厚度为为30-60μm。