[发明专利]一种显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202111445978.5 申请日: 2021-11-30
公开(公告)号: CN114156327A 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 张娟;孙孟娜;王鹏;焦志强 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 丁睿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明涉及显示设备技术领域,公开了一种显示面板及显示装置,该显示面板包括衬底基板和位于衬底基板上的多个有机发光晶体管、绝缘隔断层以及黑矩阵;每个有机发光晶体管包括栅极、栅极绝缘层、有机发光层、源极和漏极,栅极、栅极绝缘层以及有机发光层层叠设置,源极和漏极与有机发光层电连接,每两个相邻的有机发光层之间具有通过刻蚀工艺形成的间隙;绝缘隔断层填充于间隙中,用于限定每个有机发光晶体管的出光区域;黑矩阵位于多个有机发光晶体管的出光侧,且黑矩阵在衬底基板上的正投影覆盖绝缘隔断层在衬底基板上的正投影。该显示面板能够提高像素分辨率、像素的开口率以及色域。

技术领域

本发明涉及显示设备技术领域,特别涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

有机发光晶体管(OLET)是集成了有机场效应晶体管(OFET)的开关功能与有机电致发光器件(OLED)的电致发光功能的器件。OLET器件的工作原理是:栅极电压在控制TFT部分源漏电流的同时,也控制了发光区域的面积与发光强度。OLET器件结构简单、制备工艺成熟、器件轻薄、易于微型化,成为了未来显示技术的发展趋势之一,有必要对其进行深入的研究。

发明内容

本发明提供了一种显示面板及显示装置,上述显示面板中有机发光层之间的间隔减小,有机发光层的面发光区域能够加大,进而能够提高像素分辨率、像素的开口率以及色域。

为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:

一种显示面板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的多个有机发光晶体管、绝缘隔断层以及黑矩阵;

每个所述有机发光晶体管包括栅极、栅极绝缘层、有机发光层、源极和漏极,所述栅极、栅极绝缘层以及有机发光层层叠设置,所述源极和漏极与所述有机发光层电连接,每两个相邻的所述有机发光层之间具有通过刻蚀工艺形成的间隙;

所述绝缘隔断层填充于所述间隙中,用于限定每个所述有机发光晶体管的出光区域;

所述黑矩阵位于多个所述有机发光晶体管的出光侧,且所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影覆盖所述绝缘隔断层在所述衬底基板上的正投影。

本发明实施例提供的显示面板中,包括衬底基板和位于衬底基板上的多个有机发光晶体管、绝缘隔断层以及黑矩阵,其中,每个有机发光晶体管包括栅极、栅极绝缘层、有机发光层、源极和漏极,可以通过刻蚀工艺在每两个相邻的有机发光层之间形成间隙,绝缘隔断层填充于间隙中,通过绝缘隔断层能够限定每个有机发光晶体管的出光区域,而黑矩阵位于有机发光晶体管的出光层,且黑矩阵在衬底基板上的正投影覆盖绝缘隔断层在衬底基板上的正投影,能够避免相邻的有机发光层之间发生串扰。上述显示面板中通过相邻的有机发光层之间的间隙中的绝缘隔断层和覆盖绝缘隔断层的黑矩阵能够用来代替现有技术中的像素界定层和bank等结构,通过刻蚀工艺形成的间隙的宽度小于现有技术中像素界定层的宽度,在制作高分辨率的显示面板时,有机发光层之间的间隔减小,有机发光层的面发光区域能够加大,进而能够提高显示面板的分辨率、像素的开口率以及色域。

可选地,所述绝缘隔断层与位于所述有机发光层背离所述衬底基板一侧的至少一层绝缘层同层设置。

可选地,所述衬底基板为透明基板,所述有机发光层、栅极绝缘层以及栅极依次形成于所述衬底基板上,所述源极和漏极位于所述有机发光层背离衬底基板的一侧;

所述显示面板还包括位于所述栅极背离所述衬底基板一侧的封装层;

所述绝缘隔断层与所述栅极绝缘层同层制备,和/或,所述绝缘隔断层与所述封装层中至少一层同层设置。

可选地,多个有机发光晶体管中的有机发光层为同一种颜色的有机发光层;

所述显示面板还包括位于所述衬底基板背离所述有机发光层一侧的彩膜层,所述彩膜层包括与所述有机发光层一一对应的多个滤光单元,所述黑矩阵位于每两个相邻的所述滤光单元之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111445978.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top