[发明专利]一种磁控溅射阳光控制膜钢化玻璃的制造方法有效
| 申请号： | 202111437409.6 | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN113998900B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | 韩君晖 | 申请（专利权）人： | 太仓耀华玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;C03B27/012;C03B27/04 |
| 代理公司： | 苏州市方略专利代理事务所(普通合伙) 32267 | 代理人： | 王克兰 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 阳光 控制 钢化玻璃 制造 方法 | ||
1.一种磁控溅射阳光控制膜钢化玻璃的制造方法，其特征在于：在玻璃基片上依次磁控溅射厚度为10-120nm的SiNx层、厚度为5-20nm的ZnOx层、厚度为2-30nm的CrNx层和厚度为20-60nm的SiNx层，得到阳光控制膜玻璃，然后，将阳光控制膜玻璃送入钢化炉进行物理钢化，制得所述的磁控溅射阳光控制膜钢化玻璃；钢化过程包括预热处理、加热处理和冷却处理；其中，预热处理的温度为550~580℃，加热处理的温度为650~680℃，冷却处理的温度为30~40℃；
第一层镀膜，是在干燥洁净的玻璃基片上采用旋转阴极溅射SiNx，气体成分为氩:氮体积比=15:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下磁控溅射SiNx层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射SiAl；
第二层镀膜，是采用旋转阴极溅射ZnOx，气体成分为氩:氧体积比=15:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下磁控溅射ZnOx层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射ZnOx；
第三层镀膜，是采用平面阴极溅射CrNx，气体成分为氩:氮体积比=15:100，在真空条件下，保持气体压力为3.0bar状态下磁控溅射CrNx层，用直流电源溅射Cr；
第四层镀膜，是采用旋转阴极溅射SiNx，气体成分为氩:氮体积比=15:100，在真空条件下，保持气体压力为2.5bar状态下磁控溅射SiNx层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射SiAl；
制得的磁控溅射阳光控制膜钢化玻璃呈银灰色。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射阳光控制膜钢化玻璃的制造方法，其特征在于：在钢化过程之前，对阳光控制膜玻璃进行切割磨边、清洗处理。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射阳光控制膜钢化玻璃的制造方法，其特征在于：预热处理时，阳光控制膜玻璃在对流钢化炉预热段进行预加热，预热炉加热时长为180~200s，阳光膜玻璃靠对流风机所产生的对流进行加热。
4.根据权利要求1所述的磁控溅射阳光控制膜钢化玻璃的制造方法，其特征在于：加热处理时，阳光控制膜玻璃在对流钢化炉加热段进行加热，加热炉加热时长为180~200s。
5.根据权利要求1所述的磁控溅射阳光控制膜钢化玻璃的制造方法，其特征在于：冷却处理时，冷却时间为120s，上风栅风压为 3800Pa，下风栅风压为3300Pa。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太仓耀华玻璃有限公司，未经太仓耀华玻璃有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111437409.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
