[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示面板

说明书

本申请公开了一种阵列基板及其制作方法和显示面板，所述制作方法包括步骤：提供一玻璃衬底；在所述玻璃衬底上形成多个纳米级凹坑；在所述玻璃衬底对应所述纳米级凹坑的区域形成金属层；形成阵列基板。本申请通过上述方式，提高金属层与玻璃衬底之间的附着力。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法和显示面板。

背景技术

随着对显示器技术的逐步成熟，人们对液晶显示器提出了更高的要求：高分辨率、大尺寸、高刷新率等，现如今主流的铝导线作为显示面板内的金属走线已很难实现液晶显示器的高分辨率、大尺寸、高刷新率等，业内逐步开发出导电性能更好铜来取代铝，相比于铝，铜具有更好的导电性能，能够改善大尺寸液晶显示器电路的延迟问题，提高刷新率。

但是铜与玻璃基板的附着力较差，需在玻璃基板与铜金属层之间制备一层过渡层，过渡层通常采用钼、钛等金属，与铜和玻璃基板都有较好的附着力。而过渡层的存在，增加了图案化金属层的复杂程度，容易发生多种蚀刻不良(例如：过蚀刻、蚀刻不净、过渡层残留等)，导致良率下降。在保证金属层与玻璃基板良好的附着下，取消过渡层一直是业内期待攻克的难题。

发明内容

本申请的目的是提供一种阵列基板及其制作方法和显示面板，提高金属层与玻璃衬底之间的附着力。

本申请公开了一种阵列基板的制作方法，包括步骤：

提供一玻璃衬底；

在所述玻璃衬底上形成多个纳米级凹坑；

在所述玻璃衬底对应所述纳米级凹坑的区域形成金属层；

形成阵列基板。

可选的，所述在所述玻璃衬底上形成多个纳米级凹坑的步骤中，包括：

提供一氟化氢溶液；

将氟化氢溶液喷射到所述玻璃衬底上；

经预设时间后，所述玻璃衬底形成多个纳米级凹坑；

清洗所述玻璃衬底。

可选的，所述将氟化氢溶液喷射到所述玻璃衬底上的步骤中，包括：

提供一高速气流；

将所述氟化氢溶液在所述高速气流作用下，经喷嘴喷射出；

形成纳米级氟化氢雾滴，所述纳米级氟化氢雾滴喷射到所述玻璃衬底上。

可选的，所述将所述氟化氢溶液在高速气流作用下，经喷嘴喷射出的步骤中，包括：

所述喷嘴处设置加热单元，将所述氟化氢溶液在所述高速气流作用下，经喷嘴加热后喷射出。

可选的，所述将氟化氢溶液喷射到所述玻璃衬底上的步骤中，包括：

遮挡所述玻璃衬底的非绑定区；

仅将所述氟化氢溶液喷射到所述玻璃衬底上的绑定区域。

可选的，所述遮挡所述玻璃衬底的非绑定区的步骤中，包括：

在所述玻璃衬底上涂布光刻胶；

曝光显影后去除玻璃衬底的绑定区的光刻胶；

对应所述玻璃衬底的非绑定区的光刻胶保留。

本申请还公开了一种阵列基板，包括玻璃衬底和设置在所述玻璃衬底上的金属层，所述阵列基板采用上述阵列基板的制作方法形成，所述玻璃衬底上设置有纳米级凹坑，所述金属层对应所述纳米级凹坑的区域设置，且所述金属层与所述玻璃衬底直接接触。