[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：

提供一玻璃衬底；

在所述玻璃衬底上形成多个纳米级凹坑；

在所述玻璃衬底对应所述纳米级凹坑的区域形成金属层；

形成阵列基板。

2.根据权利要求1所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述玻璃衬底上形成多个纳米级凹坑的步骤中，包括：

提供一氟化氢溶液；

将氟化氢溶液喷射到所述玻璃衬底上；

经预设时间后，所述玻璃衬底形成多个纳米级凹坑；

清洗所述玻璃衬底。

3.根据权利要求2所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述将氟化氢溶液喷射到所述玻璃衬底上的步骤中，包括：

提供一高速气流；

将所述氟化氢溶液在所述高速气流作用下，经喷嘴喷射出；

形成纳米级氟化氢雾滴，所述纳米级氟化氢雾滴喷射到所述玻璃衬底上。

4.根据权利要求3所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述将所述氟化氢溶液在高速气流作用下，经喷嘴喷射出的步骤中，包括：

所述喷嘴处设置加热单元，将所述氟化氢溶液在所述高速气流作用下，经喷嘴加热后喷射出。

5.根据权利要求2所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述将氟化氢溶液喷射到所述玻璃衬底上的步骤中，包括：

遮挡所述玻璃衬底的非绑定区；

仅将所述氟化氢溶液喷射到所述玻璃衬底上的绑定区域。

6.根据权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述遮挡所述玻璃衬底的非绑定区的步骤中，包括：

在所述玻璃衬底上涂布光刻胶；

曝光显影后去除玻璃衬底的绑定区的光刻胶；

对应所述玻璃衬底的非绑定区的光刻胶保留。

7.一种阵列基板，包括玻璃衬底和设置在所述玻璃衬底上的金属层，其特征在于，所述阵列基板采用上述权利要求1-6任意一项所述的阵列基板的制作方法形成，所述玻璃衬底上设置有纳米级凹坑，所述金属层对应所述纳米级凹坑的区域设置，且所述金属层与所述玻璃衬底直接接触。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述纳米级凹坑的半径在10纳米至50纳米之间，所述纳米级凹坑的密度为100-1000个/每平方微米。

9.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述显示面板被划分为显示区和非显示区，所述非显示区包括绑定区，所述玻璃衬底仅对应所述绑定区设置有纳米级凹坑。

10.一种显示面板，其特征在于，包括彩膜基板和如权利要求7-9任意一项所述的阵列基板，所述彩膜基板与所述阵列基板对盒设置。