[发明专利]一种平板蚀刻用工艺及其装置

说明书

本发明涉及蚀刻领域，公开了一种平板蚀刻用工艺及其装置，该工艺包括如下步骤：S1：首先对金属板待蚀刻面进行清洗和干燥处理；S2：将金属板进行贴膜或涂布处理；S3：将金属板进行烘干处理；S4：将金属板按照进行曝光、显影处理，曝光、显影的图纹与预设图纹一致，曝光、显影的图纹中任意一条纹路的截面宽度小于预设图纹对应纹路的截面宽度；S5：再将金属板进行烘干；S6：对金属板进行蚀刻；S7：最后进行脱膜即可，本发明提出的平板用蚀刻工艺，通过缩小蚀刻纹路宽度能够有效避免侧蚀问题；本发明提出的蚀刻装置，能够实现流水线式自动化蚀刻处理功能，能够根据不同蚀刻要求，调节金属板呈不同姿态和动作。

技术领域

本发明涉及蚀刻领域，更具体地说，它涉及一种平板蚀刻用工艺及其装置。

背景技术

蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。

最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

如何减少侧蚀和突沿，提高蚀刻系数是业界内的难题，侧蚀产生突沿，通常印制板在蚀刻液中的时间越长，侧蚀越严重，导致蚀刻效果变差，如何降低侧蚀，提高蚀刻系数是目前急需解决的问题之一。

发明内容

本发明提供一种平板蚀刻用工艺，包括如下步骤：

S1：首先对金属板待蚀刻面进行清洗和干燥处理；

S2：将S1中处理后的金属板进行贴膜或涂布处理；

S3：将S2中贴膜或涂布之后的金属板进行烘干处理；

S4：将S3中经过烘干处理之后的金属板按照进行曝光、显影处理，曝光、显影的图纹与预设图纹一致，曝光、显影的图纹中任意一条纹路的截面宽度小于预设图纹对应纹路的截面宽度；

S5：再将金属板进行烘干；

S6：对金属板进行蚀刻；

S7：最后进行脱膜即可。

一种平板蚀刻装置，包括输送带、夹具和蚀刻箱，夹具沿着输送带的输送方向等距间隔分布，输送带用于带动夹具通过蚀刻箱，夹具包括用于吸引固定金属板的吸板，吸板安装在被动机构上，蚀刻箱内装有用于对金属板进行蚀刻的喷淋系统以及和动力机构，动力机构和被动机构对应布置，动力机构能够和被动机构结合或分离，动力机构用于向被动机构传递动力，被动机构用于带动吸板配合喷淋系统摇动。

优选的：被动机构包括球铰链、圆环盘和配合件，球铰链的活动端固定安装在吸板上，球铰链的固定端安装在立柱上，圆环盘的盘面和吸板的板面平行，圆环盘固定安装在吸板上，球铰链位于圆环盘的圆心位置，配合件和圆环盘沿着其圆周走向构成滑动导向配合，配合件沿着垂直于圆环盘盘面的方向上和圆环盘面构成抵靠限位配合，配合件连接调节单元，调节单元用于调节配合件围绕立柱转动且调节配合件沿着立柱高度方向移动。

优选的：配合件下端具有两配合部，两配合部之间的间距和圆环盘厚度一致，两配合部和圆环盘盘面点接触。

优选的：被动机构还包括限位单元，限位单元用于在配合件围绕立柱转动的过程中，约束球轴承的活动端不会围绕立柱转动，限位单元包括A限位件和B限位件，A限位件布置在球轴承的固定端上，B限位件安装在球轴承的活动端上，A限位件和B限位件围绕立柱的轴向构成限位配合，A限位件和B限位件沿着立柱的高度方向构成弹性配合。