[发明专利]一种平板蚀刻用工艺及其装置

权利要求书

1.一种平板蚀刻用工艺，其特征在于，包括如下步骤：S1：首先对金属板待蚀刻面进行清洗和干燥处理；

S2：将S1中处理后的金属板进行贴膜或涂布处理；

S3：将S2中贴膜或涂布之后的金属板进行烘干处理；

S4：将S3中经过烘干处理之后的金属板按照进行曝光、显影处理，曝光、显影的图纹与预设图纹一致，曝光、显影的图纹中任意一条纹路的截面宽度小于预设图纹对应纹路的截面宽度；

S5：再将金属板进行烘干；

S6：对金属板进行蚀刻；

S7：最后进行脱膜即可。

2.一种平板蚀刻装置，其特征在于，包括输送带(100)、夹具(300)和蚀刻箱(200)，夹具(300)沿着输送带(100)的输送方向等距间隔分布，输送带(100)用于带动夹具(300)通过蚀刻箱(200)，夹具(300)包括用于吸引固定金属板的吸板(360)，吸板(360)安装在被动机构上，蚀刻箱(200)内装有用于对金属板进行蚀刻的喷淋系统(210)以及和动力机构(220)，动力机构(220)和被动机构对应布置，动力机构(220)能够和被动机构结合或分离，动力机构(220)用于向被动机构传递动力，被动机构用于带动吸板(360)配合喷淋系统摇动。

3.根据权利要求2所述的一种平板蚀刻装置，其特征在于，被动机构包括球铰链(310)、圆环盘(350)和配合件(341)，球铰链(310)的活动端固定安装在吸板(360)上，球铰链(310)的固定端安装在立柱(370)上，圆环盘(350)的盘面和吸板(360)的板面平行，圆环盘(350)固定安装在吸板(360)上，球铰链(310)位于圆环盘(350)的圆心位置，配合件(341)和圆环盘(350)沿着其圆周走向构成滑动导向配合，配合件(341)沿着垂直于圆环盘(350)盘面的方向上和圆环盘面(350)构成抵靠限位配合，配合件(341)连接调节单元，调节单元用于调节配合件(341)围绕立柱(370)转动且调节配合件(371)沿着立柱(370)高度方向移动。

4.根据权利要求3所述的一种平板蚀刻装置，其特征在于，配合件(341)下端具有两配合部，两配合部之间的间距和圆环盘(350)厚度一致，两配合部和圆环盘(350)盘面点接触。

5.根据权利要求4所述的一种平板蚀刻装置，其特征在于，被动机构还包括限位单元(320)，限位单元(320)用于在配合件(341)围绕立柱(370)转动的过程中，约束球轴承(310)的活动端不会围绕立柱(370)转动，限位单元(320)包括A限位件(321)和B限位件(322)，A限位件(321)布置在球轴承(310)的固定端上，B限位件(322)安装在球轴承(310)的活动端上，A限位件(321)和B限位件(322)围绕立柱(370)的轴向构成限位配合，A限位件(321)和B限位件(322)沿着立柱(370)的高度方向构成弹性配合。

6.根据权利要求5所述的一种平板蚀刻装置，其特征在于，A限位件(321)为环形板状构件，A限位件(321)的板面和立柱(370)的高度方向相垂直，球轴承(310)的固定端位于A限位件(321)的圆心位置，A限位件(321)靠近吸板(360)的一侧板面上设置有限位齿，限位齿围绕A限位件(321)的轴向等距间隔分布，B限位件(322)为弹性片状构件，B限位件(322)一端抵靠在A限位件(321)相邻的限位齿之间，B限位件(322)另一端和球轴承(310)的活动端固定连接。

7.根据权利要求6所述的一种平板蚀刻装置，其特征在于，B限位件(322)为弧形弹性片状构件，B限位件(322)设置有两组，两B限位件(322)呈八字状分布。