[发明专利]运行成像装置的清洁系统的方法、成像装置和计算机程序

说明书

本发明涉及一种用于运行医学成像装置(1)的清洁系统(24)的方法，其中所述成像装置(1)具有暴露于患者(6)和/或操作人员(15)的外部的、污染影响的使用表面，其特征在于，在使用阶段期间，尤其对于患者(6)的检查过程，记录检测所述使用表面的至少一部分的传感器装置(25)的传感器数据，并且通过评估所述传感器数据确定具有所述使用表面的潜在污染区域(16)的表面图(36)，和在所述使用阶段之后的清洁阶段期间，至少将所述污染区域(16)作为清洁信息(35)的一部分输出给清洁人员和/或用于操控成像装置(1)的至少一个清洁设备(11)，以用于有针对性地清洁所述污染区域(16)。

技术领域

本发明涉及一种计算机实现的用于运行医学成像装置的清洁系统的方法，其中成像装置具有暴露于患者和/或操作人员的外部的、污染影响的使用表面。此外，本发明涉及一种成像装置、一种计算机程序和一种电子可读的数据载体。

背景技术

在当今的临床和非临床实践中，例如在医院和/或放射中心中频繁使用大量不同的成像模态，例如X射线成像，在此尤其是计算机断层扫描成像和磁共振成像。相应的成像装置大多是较大的设施，在计算机断层扫描装置的情况下例如由具有在机架中引导的至少一个容纳装置的机架以及相应的可移动的检查床形成，而在磁共振装置中由包含基本场磁体的主磁体单元形成，所述主磁体单元限定了患者容纳部，患者同样能够借助于检查床被移动到所述患者容纳部中。对于这种类型的成像放射系统存在非常广泛的应用领域，所述应用领域从主要健康的人群的筛查延展至重病患者的检查。所述应用的多样性要求对成像装置进行适宜和有针对性的清洁和消毒，以便避免感染等的传播。尤其在流行病情况下，对成像装置进行消毒，例如在检查疑似病例之后进行消毒特别重要。这也适用于感染可能会有特别严重后果的高危患者。

在对成像系统进行消毒时的一个特别的困难之处在于适宜的程度的消毒和清洁。在例如在手术室中在干预治疗期间与患者直接接触的成像装置的情况下适用非常高的卫生要求。然而，在感染风险明显较低的成像装置的情况下的消毒过程要困难得多。为此，具体的应用示例例如是在放射科中的X射线装置，其中在白天期间检查例如有骨折或类似的内伤的大量患者。在此，感染风险显著更低，并且在用于对成像装置进行适宜的消毒的时间和材料耗费之间进行权衡明显更难。

负责卫生的人员或现场的卫生专业人士的任务是定义医学成像装置的准备(清洁和/或消毒)，例如创建卫生计划并且确保其实施。由于卫生标准，例如ISO 17664:2017标准，与患者直接接触的关键、半关键和非关键的医疗产品和医疗设备的制造商负责在使用说明中描述对于产品/设备的准备步骤的验证。然而，制造商仅有限地对卫生计划的内容和实施具有直接影响，以用于减少潜在风险或风险情况。

在卫生方面，存在感染风险被认为是可能涉及患者、医疗用户和第三方的潜在风险。当触碰表面时于是会产生风险情况。在存在活性病原体(风险)的情况下发生触碰越频繁，则发生感染的概率就会越高。

不同的规范基础，例如在罗伯特科赫研究所(RKI)的医院卫生和感染预防委员会(KRINKO)关于表面消毒主题的建议，使用所描述的基础相关性来对卫生相关的(或要清洁的和必要时要消毒的)表面进行分类。在此能够假设：在手术室或重症监护室中的人比例如在候诊室中人风险更大。

在成像装置中至今常用的方法在于，根据规范，例如卫生计划对表面，尤其是会与患者和/或操作人员接触的整个使用表面进行清洁和消毒。

特殊性也在如下情况下始终适用：即涉及狭窄的患者容纳部，例如在存在较小直径的磁共振装置中，使得在患者容纳部的壁和患者的面部之间仅存在很短的间距。如果患者打喷嚏或咳嗽，尤其是即使患者仅呼吸，这也可能会引起表面被气溶胶污染。这引起，通常必须清洁整个患者容纳部，然而，鉴于长度和小的直径，这可能是极其耗费和复杂的。

此外适用，在与成像装置的清洁和消毒相关的卫生计划中，通常也包括整个房间，甚至可能被清洁，因为清洁和/或消毒需求不明确。此外也没有关于清洁过程的反馈，时间耗费和其它耗费很大且与实际要求无关。此外，也不存在用于证明已经进行清洁的可能性。