[发明专利]一种红外短波截止滤光片

说明书

本发明属于光学零件薄膜制造技术领域，具体涉及一种红外短波截止滤光片，滤光片膜系结构为MLMHM|Sub|(MH)^14M，其中，Sub为基底，(MH)^14M为长波通滤光膜系，MLMHM为增透膜膜系，H为Ge膜层，M为ZnS膜层，L为YbF₃膜层。本发明的红外短波截止滤光片在7～9μm波段截止，9.5～11μm波段平均透射率T≥93％，具有良好的的膜层环境与可靠性；本发明的红外长波截止滤光片采用本发明制作的红外短波截止滤光片在7.0～9μm波段截止，9.5～11μm波段平均透射率T＝93.5％。具有很强的环境适应性。

技术领域

本发明属于光学零件薄膜制造技术领域，具体涉及一种红外短波截止滤光 片。

背景技术

从光学薄膜角度来看，滤光片是对某一波段具有高的透射率，同时对其余 波段截止。红外短波截止滤光片对短波红外高透射，长波红外波段高度截止。 红外短波截止滤光片主要应用于红外多光谱探测系统，具有滤除背景杂波作 用，对提高红外光学系统信噪比，改善产品性能具有重要的意义。红外短波截 止滤光片对各膜层厚度、膜层的牢固度、光学特性都有极高的要求，但目前可供选择的红外膜料品种很少，同时还存在制备难度大的问题。红外短波截止滤 光片的膜系结构和镀制方法是目前红外光学薄膜研究的重点。

发明内容

有鉴于此，本发明提出一种红外短波截止滤光片，滤光片膜系结构为 MLMHM|Sub|(MH)^14M，其中，Sub为基底，(MH)^14M为长波通滤光 膜系，MLMHM为增透膜膜系，H为Ge膜层，M为ZnS膜层，L为YbF₃膜 层。采用本发明膜系结构和制备方法制得红外短波截止滤光片在7～9μm波段 截止，9.5～11μm波段平均透射率T≥93％，具有良好的膜层环境与可靠性。

为了达到上述技术目的，本发明所采用的具体技术方案为：

一种红外短波截止滤光片，该滤光片的膜系结构为：

MLMHM|Sub|(MH)^14M

其中，Sub为基底，(MH)^14M为长波通滤光膜系，MLMHM为增透膜 膜系，H为Ge膜层，M为ZnS膜层，L为YbF₃膜层。

进一步的，所述基底为Ge基底。

进一步的，所述增透膜膜系MLMHM中，与所述基底相邻的膜层为第1 层，最外层为第5层，第1～5层的几何厚度值为：第1层310～330nm，第2 层150～170nm，第3层100～120nm，第4层830～850nm，第5层60～80nm。

进一步的，所述长波通滤光膜系(MH)^14M中，与基底相邻的膜层为第1 层，最外层为第29层，第1～29层的几何厚度值为：第1层420～440nm，第 2层500～520nm，第3层720～740nm，第4层450～470nm，第5层840～860nm， 第6层490～510nm，第7层830～850nm，第8层460～480nm，9层870～890nm， 第10层470～490nm，第11层860～880nm，第12层470～490nm，第13层 880～900nm，第14层470～490nm，第15层850～870nm，第16层470～490nm， 第17层870～890nm，第18层460～480nm，第19层880～900nm，第20层 470～490nm，第21层770～790nm，第22层510～530nm，第23层860～880nm, 第24层490～510nm，第25层740～760nm，第26层460～480nm，第27层 900～920nm，第28层440～460nm，第29层1600～1620nm。

进一步的，红外短波截止滤光片的制备方法包括以下步骤：

S101：在基底上单面镀增透膜膜系，包括以下步骤：

S101.1:清洁基底，并用离子源轰击3～5分钟；