[发明专利]支撑单元和用于处理基板的设备在审
| 申请号: | 202111376062.9 | 申请日: | 2021-11-19 |
| 公开(公告)号: | CN114520168A | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
| 发明(设计)人: | 宋修汉;金喆求;崔重奉;申哲榕;金载烈 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 钟锦舜;刘烽 |
| 地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 支撑 单元 用于 处理 设备 | ||
1.一种用于支撑基板的支撑单元,所述支撑单元包括:
加热构件,所述加热构件配置成将热能传递至被支撑的基板;
反射板,所述反射板设置在所述加热构件下方且配置成将所述加热构件产生的热能反射至所述基板;
冷却板,所述冷却板设置在所述反射板下方且形成有冷却流动路径,冷却流体在所述冷却流动路径中流动;以及
供气管线,所述供气管线配置成向所述反射板与所述冷却板之间的空间供应气体。
2.如权利要求1所述的支撑单元,其中所述冷却板的上表面具有:
接触部分,所述接触部分与所述反射板接触;以及
间隔部分,所述间隔部分与所述反射板间隔开以形成所述空间。
3.如权利要求2所述的支撑单元,其中当从上方观察时,所述冷却板的边缘区域中每单位面积的所述接触部分与所述间隔部分的比率大于所述冷却板的中心区域中每单位面积的所述接触部分与所述间隔部分的比率。
4.如权利要求1所述的支撑单元,其中所述供气管线包括:
第一供气管线,所述第一供气管线向所述空间供应所述气体;以及
第二供气管线,所述第二供气管线向所述冷却板的下部分供应所述气体。
5.如权利要求1至4中任一项所述的支撑单元,其进一步包括:
卡盘台,所述卡盘台联接至旋转驱动单元以能够旋转;以及
窗,所述窗设置在所述卡盘台上方且与所述卡盘台结合以形成内部空间,所述加热构件、所述反射板及所述冷却板设置在所述内部空间中。
6.如权利要求5所述的支撑单元,其中在所述窗的侧表面中形成有排放孔,由所述供气管线供应的所述气体经由所述排放孔排放。
7.如权利要求5所述的支撑单元,其中当从上方观察时,在所述卡盘台的边缘区域中形成有阻挡突起,所述阻挡突起阻挡外部杂质引入所述内部空间中。
8.如权利要求7所述的支撑单元,其中当从上方观察时,所述阻挡突起设置成围绕所述冷却板,并且
所述阻挡突起的上端设置成与所述反射板间隔开。
9.如权利要求5所述的支撑单元,其中所述旋转驱动单元设置有中空旋转轴,所述中空旋转轴具有中空空间,并且
所述供气管线、用于将所述冷却流体供应至所述冷却流动路径的流体供应管线以及用于将所述冷却流体从所述冷却流动路径排放的流体排放管线中的至少一者被提供至所述中空空间。
10.如权利要求5所述的支撑单元,其中所述卡盘台与所述窗彼此联接以藉由所述旋转驱动单元的旋转而旋转,并且所述加热构件、所述反射板以及所述冷却板被放置成不依赖于所述卡盘台和所述窗的旋转。
11.一种用于处理基板的设备,所述设备包括:
支撑单元,所述支撑单元配置成支撑基板;以及
液体供应单元,所述液体供应单元配置成向由所述支撑单元支撑的所述基板供应处理液体,
其中所述支撑单元包括:
加热构件,所述加热构件配置成将热能传递至由所述支撑单元支撑的所述基板;
反射板,所述反射板设置在所述加热构件下方且配置成将所述加热构件产生的热能反射至所述基板;以及
冷却板,所述冷却板设置在所述反射板下方且形成有冷却流动路径,冷却流体在所述冷却流动路径中流动;并且
所述冷却板的上表面具有:
接触部分,所述接触部分与所述反射板接触;以及
间隔部分,所述间隔部分与所述反射板间隔开以形成空间。
12.如权利要求11所述的设备,其中所述支撑单元进一步包括供气管线,所述供气管线向所述空间供应惰性气体。
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