[发明专利]Co(III)-Co(II)双核钴单分子磁体及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202111368606.7 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN113956297A 公开(公告)日: 2022-01-21
发明(设计)人: 陈磊;刘梦瑶;程志杰;田双琴;蔡星伟;袁爱华 申请(专利权)人: 江苏科技大学
主分类号: C07F15/06 分类号: C07F15/06;H01F1/42
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 余俊杰
地址: 212100 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: co iii ii 双核钴单 分子 磁体 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

发明公开了Co(III)‑Co(II)双核钴单分子磁体及其制备方法和应用,所述所述单分子磁体的化学式为[CoIIICoII(L)(DMAP)3(CH3COO)],其中H4L为N,N’‑双(5‑甲基吡唑‑3‑甲酰)‑1,3‑丙二胺,结构为:DMAP为4‑二甲氨基吡啶,其结构为:与现有技术相比,本发明具有以下优点:(1)本发明所述Co(III)‑Co(II)双核钴单分子磁体在外加磁场为0.1T下可表现出典型的慢弛豫行为,具有单分子磁体特征,可作为分子基磁性材料在新型高密度信息存储设备(如光盘、硬磁盘等)使用;(2)所述方法工艺安全简单,可控性高,重现性好。

技术领域

本发明属于磁性材料技术领域,涉及一种单分子磁体材料,具体为Co(III)-Co(II)双核钴单分子磁体及其制备方法和应用。

背景技术

磁性材料用途广泛,其应用市场超过了半导体材料。其中,信息存储已是磁性材料最大的应用领域之一。随着信息技术的发展,人们需求电子器件的集成数目成指数倍数增长且器件尺寸不断减小。这种集成化和微型化的不断发展将受到加工工艺以及成本的限制,造成现代电子器件集成技术难以逾越的障碍。因此,研制开发分子基磁性材料已成为科学家们关注的热点。单分子磁体(SMM)是分子基磁性材料研究的重要领域,在高密度信息存储、量子计算机和分子自旋学中有着巨大的应用潜能。

自Long等人在2010年报道了首例过渡金属单离子磁体K[(tpaMes)FeII]以来,基于3d过渡金属的单离子磁体吸引了研究者们的关注,并得到了迅速发展。目前,已有基于Mn(III)、Fe(I/II/III)、Co(II)、Ni(I)、Cr(II)和Re(IV)等磁性中心的单离子磁体被报道。由于Co(III)为抗磁性离子,虽然Co(III)-Co(II)双核钴单分子磁体具有两个金属离子,但只有一个磁性离子Co(II),因此也被称之为单离子磁体。在过渡金属单离子磁体中,四配位的四面体构型的配合物具有较高的稳定性,而且能够形成弱的配体场,使基态和激发态发生混合,从而产生自旋-轨道耦合,使得分子具有较好的单分子磁体性质。在Co(III)-Co(II)双核钴单分子磁体中,磁性离子Co(II)的配位构型为的分子尚未见报道。

发明内容

解决的技术问题:为了克服现有技术的不足,获得一种磁性离子Co(II)的配位构型为四面体的双核钴单分子磁体,本发明提供了Co(III)-Co(II)双核钴单分子磁体及其制备方法和应用。

技术方案:Co(III)-Co(II)双核钴单分子磁体,所述单分子磁体的化学式为[CoIIICoII(L)(DMAP)3(CH3COO)],其中H4L为N,N’-双(5-甲基吡唑-3-甲酰)-1,3-丙二胺,结构为:

DMAP为4-二甲氨基吡啶,其结构为:

优选的,所述单分子磁体的化学结构式为:

优选的,所述单分子磁体的结构单位为:晶体属于三斜晶系,P-1空间群,晶胞参数为α=71.337(12)°,β=86.676(12)°,γ=71.710(13)°。

优选的,所述磁性离子Co(II)与一个配体L提供的两个氮原子、一个DMAP提供的一个氮原子以及醋酸根提供的一个氧原子配位,形成了四配位的四面体结构;抗磁性离子Co(III)与一个配体L提供的四个氮原子以及两个DMAP提供的两个氮原子配位,形成了六配位的八面体结构。

优选的,所述单分子磁体为紫色块状晶体,在外加磁场作用下表现出典型的慢磁弛豫过程。

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