[发明专利]一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法在审
| 申请号: | 202111366955.5 | 申请日: | 2021-11-18 |
| 公开(公告)号: | CN114311633A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
| 发明(设计)人: | 许一青;于华 | 申请(专利权)人: | 昆山三景科技股份有限公司 |
| 主分类号: | B29C63/02 | 分类号: | B29C63/02;B29C63/00;B29D7/01;H04M1/02;H04M1/18 |
| 代理公司: | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 李妹明 |
| 地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 纹理 膜片 贴合 手机 制备 方法 | ||
本发明公开了一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法,包括S1)采用光学级透明塑料进行后盖内凹注塑成型;S2)将注塑件表面淋涂硬化液,进行固化;S3)对PET防爆膜的表面进行UV压纹处理、镀膜和印刷;S4)将加硬处理后的注塑件的内表面与防爆膜贴合;S5)将防爆膜贴合后的注塑件进行CNC加工。本发明制备工艺简单,制作工序的步骤少,避免了盖板外周、指纹孔、摄像孔等部位的边缘透光;采用本发明制备方法制成的手机盖,可塑性强,抗冲击性能好,电磁信号屏蔽低,对电磁波损耗小,硬度高,耐磨性、耐腐蚀性、高低温冲击性和抗老化性能都较好,减少了手机后盖透光,降低摄像头高度和手机的厚度,增加了设计空间,增强了手机的视觉感。
技术领域
本发明涉及手机盖技术领域,尤其涉及一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法。
背景技术
光学塑料制品作为玻璃制品的替代品,目前已经广泛应用于社会的各个方面,光学塑料制品具有高透光、质轻、耐候、耐冲击、易成型、成本低廉等优点,正在逐步替代玻璃制品,应用于光学仪器和电子工业等方面。
常见的塑料制品包括PC、PMMA、PA、PET等工程塑料,已经广泛应用于手机镜片、眼镜镜片、镜头、仪表盘、显示屏、盖板等领域。玻璃材质手机后盖及光学塑料制品,目前主要采用玻璃基材加贴膜方式实现,现有技术中在手机盖板的内部贴膜,存在内应力、光学畸变,手机后盖透光等问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法,以解决上述背景技术中所提出的问题。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法,包括如下步骤:
S1)注塑件成型:采用光学级透明塑料进行后盖内凹注塑成型,其包括光学级透明塑料熔融、上模、调试、合模、射胶填充、保压成型、冷却和开模;
S2)加硬处理:将注塑件表面淋涂硬化液,进行固化;
S3)防爆膜制作:对PET防爆膜的表面进行UV压纹处理、镀膜和印刷;
S4)防爆膜贴合:将加硬处理后的注塑件的内表面与防爆膜贴合;
S5)CNC加工:将防爆膜贴合后的注塑件进行CNC加工。
作为进一步的优化,所述光学级透明塑料包括聚甲基丙烯酸甲酯和/或聚碳酸酯。
作为进一步的优化,S1中注塑件成型的厚度为0.075-0.1mm,火山口处采用内凹设计。
作为进一步的优化,S2中硬化液固化能量为200-250mj/cm²,时间为5-10s。
作为进一步的优化,S3中UV层的厚度为5-8um; UV压纹处理的能量为500-600mj/cm²,时间为5-10s。
作为进一步的优化,S4中防爆膜包括依次叠加的OCA光学胶、PET基材、UV胶层、电镀层和油墨层。
作为进一步的优化,所述OCA光学胶的厚度为25-50um;所述PET基材的厚度为50um-100um;所述UV胶层为改性丙烯酸酯胶层,其厚度为5-8um;所述油墨层厚度为15-30um。
作为进一步的优化,所述电镀层厚度为30-50nm,其包括介质膜与金属膜,所述介质膜为二氧化硅、二氧化钛或五氧化三钛中的一种或多种,所述金属膜材质为Ag、Cu和Al中的一种。
作为进一步的优化,S4中防爆膜贴合采用真空加热贴合机,真空度为-100mbar、贴合温度为25-40℃,贴合时间为20-40s,胶头为仿形凸起胶头。
本发明还提供了一种手机盖,采用上述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法制备而成,手机盖的内凹处用于降低摄像头凸出于手机盖的程度。
与已有技术相比,本发明的有益效果体现在:
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