[发明专利]一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法

权利要求书

1.一种纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1)注塑件成型：采用光学级透明塑料进行后盖内凹注塑成型；

S2)加硬处理：将注塑件表面淋涂硬化液，进行固化；

S3)防爆膜制作：对PET防爆膜的表面进行UV压纹处理、镀膜和印刷；

S4)防爆膜贴合：将加硬处理后的注塑件的内表面与防爆膜贴合；

S5)CNC加工：将防爆膜贴合后的注塑件进行CNC加工。

2.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，所述光学级透明塑料包括聚甲基丙烯酸甲酯和/或聚碳酸酯。

3.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，S1中注塑件成型的厚度为0.075-0.1mm，火山口处采用内凹设计。

4.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，S2中硬化液固化能量为200-250mj/cm²，时间为5-10s。

5.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，S3中UV层的厚度为5-8um； UV压纹处理的能量为500-600mj/cm²，时间为5-10s。

6.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，S4中防爆膜包括依次叠加的OCA光学胶、PET基材、UV胶层、电镀层和油墨层。

7.根据权利要求6所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，所述OCA光学胶的厚度为25-50um；所述PET基材的厚度为50um-100um；所述UV胶层为改性丙烯酸酯胶层，其厚度为5-8um；所述油墨层厚度为15-30um。

8.根据权利要求6所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，所述电镀层厚度为30-50nm，其包括介质膜与金属膜，所述介质膜为二氧化硅、二氧化钛或五氧化三钛中的一种或多种，所述金属膜材质为Ag、Cu和Al中的一种。

9.根据权利要求1所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法，其特征在于，S4中防爆膜贴合采用真空加热贴合机，真空度为-100mbar、贴合温度为25-40℃，贴合时间为20-40s，胶头为仿形凸起胶头。

10.手机盖，其特征在于，采用权利要求1至9任意一项所述的纹理膜片的内凹贴合手机盖制备方法制备而成，手机盖的内凹处用于降低摄像头凸出于手机盖的程度。