[发明专利]保障氙准分子消毒器械安全有效运行的技术管理方案

说明书

本发明涉及采用氙准分子光源为核心部件制造的低温消毒器械的制造领域，其作用是为以氙准分子光源为核心部件制造的低温消毒器械输出的活性强氧化(杀菌)物质构建一个可以确保安全、有效运行的技术管理方案。

技术领域

本发明涉及采用氙准分子光源为核心部件制造的低温消毒器械的制造领域，其作用是为以氙准分子光源为核心部件制造的低温消毒器械输出的活性强氧化(杀菌)物质构建一个可以确保安全、有效运行的技术管理方案。

背景技术

氧分子双键的结合能为118kcal/mol，氮分子三键的结合能为225kcal/mol。氙准分子发射的172nm的紫外线光具有166.5kcal/mol的辐射能，所以可以切断氧分子的双键，从而激发氧气分子转化为基态氧O(³P)，而无法切断氮分子的三键。氙准分子发射的172nm在工业中有广泛的用途，如用于物体表面清洗、塑料表面改性、照相刻蚀等。最近随着人类对低温消毒技术的探索，氙准分子发射的172nm的紫外线光由于可以激发空气中的氧气产生氧化性很强的基态氧，而不会激发氮气滋生氮氧化合物的优点，已经开始被应用于消毒器械的制造领域。

氙准分子发射的172nm的紫外光辐射氧气分子后，实现氧气分子双键的均裂，产生基态氧O(³P)，基态氧的电负性很强，紫外光可以快速地与周边的VOC(挥发性有机物)产生氧化反应，生成二氧化氮气体和水。由于空气中含有水分，水分子的氢氧键的键能只有111kcal/mol，所以172nm的紫外光的辐射能还可以将水分子的氢氧键切断生成基态氢(H·)和基态氢氧基(OH·)。基态氧与基态氢氧基可以与空气中的氧气和水分子结合，最终形成O₂^-(H₂O)_n水合超氧阴离子团簇、O₃^-(H₂O)_n水合三氧离子团簇、OH^-(H₂O)_n水合氢氧根离子团簇，这就是172nm的紫外光辐射空气中的氧气后所形成的终端离子分子团簇。遗憾的是目前这些少数科学家的检测结论并没有被大多数人所了解，所以目前普遍的观点是将紫外辐射空气后的光化学产物与空气放电所产生的电化学产物都界定为臭氧，并用O₃所表示。这实际上是一种在对紫外线辐射的光化学产物与电场空气放电的电化学产物缺少快速检测的情况下，采取以滞后的分析检测技术和借助于传统的分子离子模型的思维定势而导出的偏离事实的结论。正是这种与客观实际不符的思维界定，即便是在氙准分子发射的172nm紫外光在工业清洗领域获得了极大的成功后，却并没有快速的将氙准分子光源发射的172nm的紫外光应用于消毒领域。尽管在氙准分子发射的172nm紫外光被应用到工业清洗领域时，一些领域内的技术人员都知道工业清洗领域的氧化性机理是与消毒所需要的强氧化性机理是完全一样的。