[发明专利]一种基于声光装置的模式控制系统在审

专利信息
申请号: 202111363796.3 申请日: 2021-11-17
公开(公告)号: CN114069377A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 曾祥龙;邬昊村;徐江韬;王龙涛;邾毅 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H01S3/117 分类号: H01S3/117;H01S3/108;H01S3/098;H01S3/094
代理公司: 北京盛询知识产权代理有限公司 11901 代理人: 方亚兵
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 声光 装置 模式 控制系统
【说明书】:

发明公开一种基于声光装置的模式控制系统,包括高功率脉冲产生装置、声光装置、光学成像装置和数据分析工具;本发明在高功率脉冲产生装置中加入了非线性光纤环路,使孤子锁模脉冲演化为耗散孤子共振脉冲,提高了装置的输出功率,实现了高功率的锁模脉冲输出,加入了声光装置,通过改变射频信号的频率,实现模式的选择性激发以及输出模式/混合模式的动态切换,加入的光学成像装置,可以将声光装置输出端口的模场放大,并投射在面阵激光光束分析仪的镜头上,使得分析模斑更为准确和便捷,同时本系统成本较低,适合推广。

技术领域

本发明涉及高阶模式控制系统技术领域,尤其涉及一种基于声光装置的模式控制系统。

背景技术

选择性激发横向模式是实现模分复用技术的重要手段之一,它指的是对于系统的输出模场中含有的不同模式,可以选择一个特定的比例,按照比例的不同,选择性激发横向模式可以分为完全激发某一特定模式和激发混合模式,对于前者的研究较为完备,可实现的方法有特种光纤法、相位板法、长周期光栅法等,对于后者,可实现的方法有数字全息法、模式分解法、耦合器法等,而现有对完全激发某一特定模式的研究方法均无法生成混合模式,对于激发混合模式的实现方法中数字全息法的计算复杂度高,计算量大,模式分解法需要一个特殊的电控偏振控制器,在实际运用中不易实现,耦合器法对不同的比例需要不同耦合比的耦合器,成本太高,由此可见完全激发某一特定模式和激发混合模式的实现方法互不相通,不利于模分复用技术的发展;

因此,本发明提出一种基于声光装置的模式控制系统以解决现有技术中存在的问题。

发明内容

针对上述问题,本发明的目的在于提出一种基于声光装置的模式控制系统,该基于声光装置的模式控制系统加入了非线性光纤环路提高了激光器的输出功率,实现了高功率的锁模脉冲输出,通过声光装置实现模式的选择性激发以及输出模式/混合模式的动态切换,光学成像装置可以将声光装置输出端口的模场放大,并准确投射在面阵激光光束分析仪的镜头上,使得分析模斑更为便捷。

为实现本发明的目的,本发明通过以下技术方案实现:一种基于声光装置的模式控制系统,包括高功率脉冲产生装置、声光装置、光学成像装置和数据分析工具,所述高功率脉冲产生装置包括第一单模耦合器、第二单模耦合器、掺镱光纤泵浦光源、合束器、掺镱光纤、第一偏振控制器、第二偏振控制器和单模光纤,所述声光装置包括铝制圆锥、压电陶瓷片、电压放大器、信号发生器、第三偏振控制器和少模光纤,所述光学成像装置包括第一双胶合透镜、第二双胶合透镜、平面分束镜、偏振相关分束立方和面阵激光光束分析仪,所述数据分析工具包括示波器、功率计和计算机。

进一步改进在于:所述第一单模耦合器设有第一单模耦合器第一端口、第一单模耦合器第二端口和第一单模耦合器第三端口,所述第一单模耦合器第一端口和所述第一单模耦合器第二端口连接形成环路;所述第二单模耦合器设有第二单模耦合器第一端口、第二单模耦合器第二端口、第二单模耦合器第三端口和第二单模耦合器第四端口,所述第二单模耦合器第三端口和所述第二单模耦合器第四端口连接形成环路,所述高功率脉冲产生装置的输出端口为所述第二单模耦合器第二端口。

进一步改进在于:所述合束器设有合束器第一端口、合束器第二端口和合束器第三端口;所述增益光纤设有增益光纤第一端口和增益光纤第二端口;所述增益光纤泵浦光源与所述合束器第一端口连接,所述第一单模耦合器第三端口与所述合束器第二端口连接,所述增益光纤第一端口与所述合束器第三端口连接,所述增益光纤第二端口与所述第二单模耦合器第一端口连接。

进一步改进在于:所述第一偏振控制器和所述第二偏振控制器设置在所述第二单模耦合器的第三端口和所述第二单模耦合器第四端口之间。

进一步改进在于:所述少模光纤设有少模光纤第一端口、少模光纤第二端口和少模光纤中间部分,所述少模光纤中间部分为去涂覆层部分;所述第二单模耦合器第二端口与所述少模光纤第一端口连接,所述第三偏振控制器设置在靠近所述少模光纤第二端口一侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111363796.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top