[发明专利]OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法

说明书

本公开实施例提供了一种OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法，像素电路基板至少包括：多个像素结构，相邻像素结构的阳极区域通过预定分割区域分割，预定分割区域内的预定位置设置有凸起结构，预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度。本公开实施例的将原有预定分割区域内设置了一个凸起结构，在设置阳极层和PR胶层时，原有处于平面的阳极层和PR胶层被凸起结构支撑起，原有PR胶层的厚度被凸起结构占据一部分，导致预定分割区域内的PR胶层变薄，因此在进行曝光显影时，能够将PR胶完全洗掉，进而在刻蚀阳极层时，阳极层能够被完全刻蚀掉，不会再出现阳极残留问题。

技术领域

本公开涉及显示领域，特别涉及一种OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法。

背景技术

在目前OLED产品生产过程中，在制作Anode Mask(阳极模板)时，由于PLN孔(平坦层孔，在平坦层上设置的)周围处会出现PR胶堆叠的情况，此处PR胶较厚，不容易曝开，导致后续刻蚀过程中PLN过孔位置的阳极无法完全刻蚀掉，发生Anode Remain(残留)，进而引起片状发亮不良。

发明内容

有鉴于此，本公开实施例提出了一种OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法，用以解决现有技术的如下问题：在制作Anode Mask时，由于PLN孔周围处PR胶堆叠导致后续刻蚀过程中PLN过孔位置的阳极无法完全刻蚀掉，发生Anode Remain(残留)，进而引起片状发亮不良。

一方面，本公开实施例提出了一种OLED显示面板的像素电路基板，至少包括：多个像素结构，相邻像素结构的阳极区域通过预定分割区域分割，所述预定分割区域分割内的预定位置设置有凸起结构，所述预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，所述预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度。

在一些实施例中，所述凸起结构设置宽度等于所述预定位置的宽度。

在一些实施例中，所述凸起结构的材料为非金属材料。

在一些实施例中，所述凸起结构的材料包括以下之一：氮化硅，氧化硅。

在一些实施例中，所述凸起结构的剖面形状至少包括以下之一：半圆形、梯形、方形、三角形。

另一方面，本公开实施例提出了一种OLED显示面板，至少包括：本公开任一实施例所述的OLED显示面板的像素电路基板。

另一方面，本公开实施例提出了一种OLED显示面板的像素电路基板的加工方法，用于加工本公开任一实施例所述的OLED显示面板的像素电路基板，包括：在第一平坦层的预定位置上设置凸起结构，其中，所述预定位置设置在相邻像素结构的阳极区域的预定分割区域中，所述预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，所述预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度；在所述第一平坦层和所述凸起结构上设置阳极层；在所述阳极层上涂覆PR胶层；对PR胶层进行曝光显影处理，以去掉所述预定分割区域内的PR胶层；对显影处理后所述预定分割区域内露出的阳极层进行刻蚀处理，以得到具有凸起结构的所述预定分割区域；对具有所述凸起结构的所述预定分割区域的基板进行PR胶剥离处理，以得到具有裸露的阳极层的像素电路基板。

在一些实施例中，所述得到具有裸露的阳极层的像素电路基板之后，还包括：在所述像素电路基板上涂布第二平坦层。

在一些实施例中，所述对PR胶层进行曝光显影处理，包括：按照预定图案模板对所述PR胶层进行曝光处理；对曝光处理后的所述PR胶层进行显影处理。

在一些实施例中，所述在第一平坦层的预定位置上设置凸起结构，包括：设置所述凸起结构的宽度等于所述预定位置的宽度。