[发明专利]OLED显示面板、及其像素电路基板和加工方法

权利要求书

1.一种OLED显示面板的像素电路基板，其特征在于，至少包括：

多个像素结构，相邻像素结构的阳极区域通过预定分割区域分割，所述预定分割区域内的预定位置设置有凸起结构，所述预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，所述预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度。

2.如权利要求1所述的像素电路基板，其特征在于，所述凸起结构设置宽度等于所述预定位置的宽度。

3.如权利要求1所述的像素电路基板，其特征在于，所述凸起结构的材料为非金属材料。

4.如权利要求1所述的像素电路基板，其特征在于，所述凸起结构的材料包括以下之一：氮化硅，氧化硅。

5.如权利要求1至4中任一项所述的像素电路基板，其特征在于，所述凸起结构的剖面形状至少包括以下之一：半圆形、梯形、方形、三角形。

6.一种OLED显示面板，其特征在于，至少包括：权利要求1至5中任一项所述的OLED显示面板的像素电路基板。

7.一种OLED显示面板的像素电路基板的加工方法，其特征在于，用于加工权利要求1至5中任一项所述的OLED显示面板的像素电路基板，包括：

在第一平坦层的预定位置上设置凸起结构，其中，所述预定位置设置在相邻像素结构的阳极区域的预定分割区域中，所述预定位置的宽度小于或等于阳极层的刻蚀区域的宽度，所述预定位置的长度大于或等于阳极层的刻蚀区域的长度；

在所述第一平坦层和所述凸起结构上设置阳极层；

在所述阳极层上涂覆PR胶层；

对PR胶层进行曝光显影处理，以去掉所述预定分割区域内的PR胶层；

对显影处理后所述预定分割区域内露出的阳极层进行刻蚀处理，以得到具有凸起结构的所述预定分割区域；

对具有所述凸起结构的所述预定分割区域的基板进行PR胶剥离处理，以得到具有裸露的阳极层的像素电路基板。

8.如权利要求7所述的加工方法，其特征在于，所述得到具有裸露的阳极层的像素电路基板之后，还包括：

在所述像素电路基板上涂布第二平坦层。

9.如权利要求7所述的加工方法，其特征在于，所述对PR胶层进行曝光显影处理，包括：

按照预定图案模板对所述PR胶层进行曝光处理；

对曝光处理后的所述PR胶层进行显影处理。

10.如权利要求7至9中任一项所述的加工方法，其特征在于，所述在第一平坦层的预定位置上设置凸起结构，包括：

设置所述凸起结构的宽度等于所述预定位置的宽度。