[发明专利]基板支撑组件及基板处理装置

说明书

本发明的一实施例的基板支撑组件，包括：基座板，包括放置基板的至少一个基板放置部，并且形成有多条气体流动线路，所述多条气体流动线路用于向所述基板放置部供应漂浮气体、旋转气体及减速气体；至少一个环绕件，配置在所述至少一个基板放置部，并且上面放置所述基板，在背面形成旋转图案部，以用于从所述旋转气体及所述减速气体接收旋转力及制动力；其中，所述至少一个环绕件通过从所述至少一个基板放置部供应的漂浮气体在所述至少一个基板放置部漂浮，通过以正向旋转方向供应的所述旋转气体对于所述基座板进行相对旋转，以使所述基板自转，并且通过以逆向旋转方向供应的所述减速气体制动。

技术领域

本发明涉及用于处理基板的半导体装置，更详细地说，涉及基板支撑组件及基板处理装置。

背景技术

通常，为了制造半导体元件、显示元件或者太阳能电池，在包括真空环境的工艺腔室的基板处理装置中执行各种工艺。例如，可进行在工艺腔室内装载基板、在基板上沉积薄膜或者蚀刻薄膜等的工艺。基板被设置在工艺腔室内的基板支撑组件支撑，通过与基板支撑组件相向设置的喷气部可向基板喷射工艺气体。

在这种基板处理装置中，为了均匀地处理基板，需要在旋转基板的同时处理基板。在基板暴露在工艺气体中的期间使基板自转，进而可谋求均匀的基板处理。为了使基板自转，基板支撑组件正在适用在利用环绕件(Satellite)漂浮基板的状态下旋转的技术。

发明内容

要解决的问题

在这种基板支撑组件的情况下，即使中断旋转气体，直到基板停止旋转需要相当长的时间。据此，迅速减速环绕件的自转的必要性正在受到关注。

本发明是为了解决包括如上所述的问题的各种问题的，目的在于提供一种可控制基板的旋转及停止速度的基板支撑组件及基板处理装置。然而，该课题仅是示例的，不得由此限定本发明的范围。

解决问题的手段

本发明的一实施例的基板支撑组件包括：基座板，包括放置基板的至少一个基板放置部，并且形成有多条气体流动线路，所述多条气体流动线路用于向所述基板放置部供应漂浮气体、旋转气体及减速气体；至少一个环绕件，配置在所述至少一个基板放置部，并且上面放置所述基板，在背面形成旋转图案部，以用于从所述旋转气体及所述减速气体接收旋转力及制动力。其中，所述至少一个环绕件通过从所述至少一个基板放置部供应的漂浮气体在所述至少一个基板放置部漂浮，通过以正向旋转方向供应的所述旋转气体对于所述基座板进行相对旋转，以使所述基板自转，并且通过以逆向旋转方向供应的所述减速气体制动。

根据所述基板支撑组件，在所述至少一个基板放置部上结合至少一个气体分配板，所述至少一个气体分配板分配从所述至少一个基板放置部供应的所述漂浮气体、所述旋转气体及所述减速气体来供应至所述至少一个环绕件。所述至少一个气体分配板可包括：漂浮气体孔，用于供应所述漂浮气体；至少一个旋转气体孔，以所述正向旋转方向倾斜形成，以供应所述旋转气体；及至少一个减速气体孔，以所述逆向旋转方向倾斜形成，以供应所述减速气体。

根据所述基板支撑组件，所述至少一个基板放置部包括多个基板放置部，所述多个基板放置部沿着所述基座板的圆周方向配置。所述多条气体流动线路可包括：多条漂浮气体流动线路，分别连接到所述多个基板放置部；多条旋转气体流动线路，分别连接到所述多个基板放置部；及多条减速气体流动线路，分别连接到所述多个基板放置部。

根据所述基板支撑组件，可包括可旋转的轴，所述轴结合于所述基座板，以使所述基板公转；在所述轴形成多条供气线路，以移动所述漂浮气体、所述旋转气体及所述减速气体。

根据所述基板支撑组件，所述多条供气线路可包括：第一供气线路，与所述多条漂浮气体流动线路共同连接；第二供气线路，与所述多条减速气体流动线路共同连接；多条第三供气线路，分别连接于所述多条旋转气体流动线路。