[发明专利]在玻璃基材上镀金属膜的方法和复合部件

权利要求书

1.一种在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：

在玻璃基材上沉积碳膜，所述碳膜包含间隔分布的碳颗粒；

在所述碳颗粒之间的间隙中沉积第一金属膜；

对所述碳膜进行氧化，得到碳氧化物气体，并对所述第一金属膜进行氧化，得到第一金属氧化物；

去除所述碳氧化物气体，制得具有凹凸不平表面的金属氧化物膜层；

在所述具有凹凸不平表面的金属氧化物膜层上沉积第二金属膜，所述第二金属膜覆盖在所述氧化物膜层的表面上，并填充上述凹凸不平结构，形成镶嵌结构。

2.根据权利要求1所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，在所述具有凹凸不平表面的金属氧化物膜层中，其凹槽部分占所述金属氧化物膜层的体积百分比10％～60％。

3.根据权利要求2所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，沿所述第二金属膜的厚度方向，所述碳膜的厚度为X nm，0＜X≤3；

所述第一金属膜的厚度为Y nm，0＜Y≤3，且Y≤X。

4.根据权利要求3所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，所述第二金属膜的厚度为5nm～1000nm。

5.根据权利要求1至4任一项所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，所述第二金属膜中的金属选自铌、钛、铝和钽中的至少一种；和/或

所述第一金属膜中的金属分别独立地选自铌、钛、钽和铝中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，所述第一金属膜中的金属和所述第二金属膜中的金属种类相同。

7.根据权利要求1至4任一项所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，沉积所述碳膜、第一金属膜和第二金属膜的方式分别独立选自磁控溅射或蒸镀。

8.根据权利要求1至4任一项所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，在所述玻璃基材上沉积所述碳膜之前，还包括在所述玻璃基材上沉积金属氧化物辅助薄膜的操作。

9.根据权利要求8所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法，其特征在于，所述金属氧化物辅助薄膜中的金属氧化物选自铌的氧化物、钛的氧化物、钽的氧化物和铝的氧化物中的至少一种。

10.一种复合部件，包括层叠设置的玻璃基材和金属膜，其特征在于，其是根据权利要求1至9任一项所述的在玻璃基材上镀金属膜的方法制得的。