[发明专利]X射线相衬成像系统在审

专利信息
申请号: 202111274583.3 申请日: 2021-10-29
公开(公告)号: CN114002242A 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 迟智军 申请(专利权)人: 北京师范大学
主分类号: G01N23/041 分类号: G01N23/041;G01N23/046;A61B6/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 许富强
地址: 100875 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 射线 成像 系统
【权利要求书】:

1.X射线相衬成像系统,其特征在于,包括常规X光管、针孔准直器、X射线毛细管透镜、成像物体、光栅G1、光栅G2、X射线探测器;

常规X光管,用于向成像物体发射X射线束;

针孔准直器,用于阻挡X射线毛细管透镜接收角度以外的入射X射线对成像质量的影响,位于常规X光管后侧;

X射线毛细管透镜,为点对点型,用于接收常规X光管发射的X射线并将其聚焦到较小的焦斑,位于针孔准直器的后侧,入口端针对针孔准直器的小孔,并且入口端至常规X光管焦点的距离等于其入射焦距f1

成像物体,为待测样品,位于X射线毛细管透镜虚拟焦斑的后侧;

光栅G1为吸收光栅,由重金属在硅基底上沉积而成,周期为p1,位于成像物体后侧;

光栅G2为吸收光栅,由重金属在硅基底上沉积而成,周期为p2,位于光栅G1后侧;

为形成清晰的莫尔干涉条纹,光栅G1与光栅G2的周期与成像布局满足关系式:

式中,R1为虚拟焦斑至成像物体的距离,D1为成像物体至光栅G1的距离,D2为光栅G1与光栅G2之间的距离;

X射线探测器,用于接收经过光栅G2到达的X射线并形成强度图像,位于光栅G2后侧。

2.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,常规X光管的焦斑在百微米量级,靶材料为钼或铜,其特征X射线能量低于20keV。

3.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,针孔准直器的材料为铅、钨中任意一种。

4.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,X射线毛细管透镜的聚焦焦斑小于50微米,并且传输效率大于10%。

5.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,X射线探测器分辨率在10微米-100微米。

6.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,X射线探测器为平板探测器、成像板探测器、X射线CCD中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,在透视成像时,光栅G2放置在高精度平移台上,通过平行移动光栅G2,一个p2周期均匀移动N步,N≥3,采集不同位置的图像,从而求解出成像物体的衰减、相衬和暗场信息。

8.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,在计算机断层成像时,光栅G2放置在高精度平移台上,成像物体放置在高精度CT转台上,在成像物体不同旋转角度下重复透视成像的步骤,进而重建出成像物体的衰减、相衬和暗场的CT信息。

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