[发明专利]X射线相衬成像系统在审
| 申请号: | 202111274583.3 | 申请日: | 2021-10-29 |
| 公开(公告)号: | CN114002242A | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
| 发明(设计)人: | 迟智军 | 申请(专利权)人: | 北京师范大学 |
| 主分类号: | G01N23/041 | 分类号: | G01N23/041;G01N23/046;A61B6/00 |
| 代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 许富强 |
| 地址: | 100875 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 射线 成像 系统 | ||
1.X射线相衬成像系统,其特征在于,包括常规X光管、针孔准直器、X射线毛细管透镜、成像物体、光栅G1、光栅G2、X射线探测器;
常规X光管,用于向成像物体发射X射线束;
针孔准直器,用于阻挡X射线毛细管透镜接收角度以外的入射X射线对成像质量的影响,位于常规X光管后侧;
X射线毛细管透镜,为点对点型,用于接收常规X光管发射的X射线并将其聚焦到较小的焦斑,位于针孔准直器的后侧,入口端针对针孔准直器的小孔,并且入口端至常规X光管焦点的距离等于其入射焦距f1;
成像物体,为待测样品,位于X射线毛细管透镜虚拟焦斑的后侧;
光栅G1为吸收光栅,由重金属在硅基底上沉积而成,周期为p1,位于成像物体后侧;
光栅G2为吸收光栅,由重金属在硅基底上沉积而成,周期为p2,位于光栅G1后侧;
为形成清晰的莫尔干涉条纹,光栅G1与光栅G2的周期与成像布局满足关系式:
式中,R1为虚拟焦斑至成像物体的距离,D1为成像物体至光栅G1的距离,D2为光栅G1与光栅G2之间的距离;
X射线探测器,用于接收经过光栅G2到达的X射线并形成强度图像,位于光栅G2后侧。
2.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,常规X光管的焦斑在百微米量级,靶材料为钼或铜,其特征X射线能量低于20keV。
3.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,针孔准直器的材料为铅、钨中任意一种。
4.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,X射线毛细管透镜的聚焦焦斑小于50微米,并且传输效率大于10%。
5.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,X射线探测器分辨率在10微米-100微米。
6.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,X射线探测器为平板探测器、成像板探测器、X射线CCD中的任意一种。
7.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,在透视成像时,光栅G2放置在高精度平移台上,通过平行移动光栅G2,一个p2周期均匀移动N步,N≥3,采集不同位置的图像,从而求解出成像物体的衰减、相衬和暗场信息。
8.根据权利要求1所述的X射线相衬成像系统,其特征在于,在计算机断层成像时,光栅G2放置在高精度平移台上,成像物体放置在高精度CT转台上,在成像物体不同旋转角度下重复透视成像的步骤,进而重建出成像物体的衰减、相衬和暗场的CT信息。
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