[发明专利]一种用于不同干膜快速曝光的方法

说明书

一种用于不同干膜快速曝光的方法，包括以下步骤：S1、确定干膜的型号、激光器、光学镜头、DMD的相关参数；S2、计算干膜光刻面处的能量密度α；S3、计算在光刻过程中，干膜获得的能量J和在最大频帧和给定行数下干膜的最小能量J_min；S4、根据干膜需要的能量J_A＝J_min，计算对应型号的干膜实际行数，并且获得在最大帧频情况下的DMD最小显示行数，在最小显示行数时，计算激光器实际使用的激光功率对应的干膜所需能量，根据速度调整使干膜所需能量满足J＝J_A。本申请使得不同能量大小的干膜情况下，都能够使得系统发挥最大的性能。

技术领域

本发明属于PCB板制版的技术领域，尤其涉及一种用于不同干膜快速曝光的方法。

背景技术

目前使用PCB板制版的曝光设备最注重设备的产能，即单位时间产出产品的数量。而对于LDI设备来说，影像设备的产能的因素主要是激光器的能量与 DMD的帧频大小。对于干膜而言，曝光设备的能量必须大于干膜的最小曝光能量，从十几豪焦到几百豪焦不等。对于需要大能量的干膜，LDI的曝光速度主要是受激光器的能量的限制。但是对于小能量的干膜而言，DMD的帧率就是限制因素。而DMD的帧频与DMD的显示行数有关。

传统的做法是DMD行数固定，这样在大能量的干膜，LDI可以保证设备的性能最大的发挥，但是，在小能量的干膜情况，DMD的帧频无法提高，因此，限制了LDI的曝光速度。

发明内容

为兼顾不同能量大小的干膜，为此，本发明提出了一种用于不同干膜快速曝光的方法，具体方案如下：

一种用于不同干膜快速曝光的方法，包括以下步骤：

S1、确定干膜的型号、激光器、光学镜头、DMD的参数；

S2、计算干膜光刻面处的能量密度α；

S3、计算在光刻过程中，干膜获得的能量J和在最大频帧和给定行数下干膜的最小能量J_min；

S4、根据干膜需要的能量J_A＝J_min，计算对应型号的干膜实际行数，并且获得在最大帧频情况下的DMD最小显示行数，在最小显示行数时，计算激光器实际使用的激光功率对应的干膜所需能量，根据速度调整使干膜所需能量满足 J＝J_A。

具体地说，步骤S1具体为：确定干膜的型号和对应型号干膜需要的能量J_A、激光器的总功率ω、光学镜头的方法倍率β、光学系统的光学效率τ以及DMD照明光斑的最大行数L。

具体地说，步骤S2具体为：

S2、计算干膜光刻面处的能量密度α，计算公式如下：

其中A表示DMD的列数。

具体地说，步骤S3具体为：计算在光刻过程中，干膜获得的能量J，计算公式如下：

t表示干膜的光刻时间；N表示DMD实际显示的行数；V表示实际的光刻速度；f表示DMD的帧率；L₁表示平台触发DMD翻转的距离；

其中最大帧频f＝1/(0.04*N+8),因此，在给定行数下干膜的最小能量为：

具体地说，步骤S4具体为：

根据干膜的光刻能量J_A＝J_min,计算N的值，N为对应型号的干膜的实际DMD 显示的行数；

在最大帧频情况下满足干膜所需能量，即