[发明专利]一种便于清洁全面按摩的足疗盆

说明书

本发明涉及理疗器具领域，具体是一种便于清洁全面按摩的足疗盆，包括浴盆体，所述浴盆体一侧水平方向设置有排水管夹，所述浴盆体外在排水管夹下方设置有用于排水的放水管，所述放水管上端被排水管夹夹住，所述浴盆体远离放水管一侧开设有足疗槽，所述足疗槽内安装有足浴盆，所述足浴盆中间设置有用于对两只脚限位的分隔带，所述分隔带内开设有放置药包的药包槽，所述分隔带两侧分别对称设置有一足背按摩盖；这样的设置使得足疗过程中可以固定药包不妨碍足疗过程同时完成足疗后可以最大限度利用足浴盆带走药渣等固体物质，并且在足底按摩同时可以对足背进行按摩和蒸汽加热促进血液循环。

技术领域

本发明属于理疗用具领域，尤其涉及一种便于清洁全面按摩的足疗盆。

背景技术

足部热浴是中国传统医学中的理疗、保健方法，当人体足部受到外部温度刺激时，可扩张足部血管，增高皮肤温度，加上足底反射区凸点按摩和磁力作用，推动气血津液循经上行，促进足部和全身的血液循环加速，驱散足底沉积物和消除体内的疲劳物质，确保血液循环顺畅和改善，从而调节各内分泌的机能，促使各内分泌体分泌各种激素；

现有的足疗盆通常会往水中加入药包或中药加强效果，但泡完脚后足疗盆内会残留药渣尤其是按摩轴下方堆积难以清理，并且因为使用者通常不会用力下压导致足底按摩效果差，而足背因为没有按摩器无法按摩，因此本方案设计了一种能够让使用者对浴盆进行下压从而增大按摩压力同时对足背进行按摩，并且在使用完后方便清理药渣的便于清洁全面按摩的足疗盆以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的是针对现有中技术存在的上述问题，提出了一种能够让使用者对浴盆进行下压从而增大按摩压力同时对足背进行按摩，并且在使用完后方便清理药渣的便于清洁全面按摩的足疗盆。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种便于清洁全面按摩的足疗盆，包括浴盆体，所述浴盆体一侧水平方向设置有排水管夹，所述浴盆体外在排水管夹下方设置有用于排水的放水管，所述放水管上端被排水管夹夹住，所述浴盆体远离放水管一侧开设有足疗槽，所述足疗槽内安装有足浴盆，所述足浴盆中间设置有用于对两只脚限位的分隔带，所述分隔带内开设有放置药包的药包槽，所述分隔带两侧分别对称设置有一足背按摩盖，所述足背按摩盖一侧设置有凸起板，所述足浴盆远离水加热室一侧下端面两侧对称竖直方向设置有下水管，所述下水管上端安装有水塞。

优选的，所述浴盆体靠近排水管夹一侧内开设有水加热室，所述水加热室下底面固定安装有加热器，所述加热器上方固定安装有监测水温的温度传感器，所述温度传感器与加热器电性连接；所述水加热室上方固定安装有给控制面板和加热器供电，所述水加热室下底面外靠近排水管夹一侧设置有排水阀并与排水管夹相连，所述水加热室远离排水管夹一侧下底面开设有水循环管，所述水循环管远离水加热室一端分叉并分别套设在两个下水管外且衔接处固定设置有密封圈，所述水循环管内设置有水循环泵。

优选的，所述足浴盆上端两侧水平方向分别设置有一足浴盆封块，每个所述足浴盆封块下端两侧分别设置有封块滑轨，每个所述封块滑轨分别设置在足浴盆上方两侧的滑槽内，且每个滑槽内分别设置有一复位弹簧，两个所述足浴盆封块互相靠近一侧分别设置有一提手把，所述远离排水管夹一侧的提手把靠近足浴盆封块一侧设置有把手转动轴，所述把手转动轴与同侧的足浴盆封块转动连接。

优选的，靠近排水管夹一侧的所述足浴盆封块下分竖直方向设置有一压力传动液压杆，所述压力传动液压杆下端伸入浴盆体内，且压力传动液压杆伸入浴盆体端外套设有传动液压道，所述传动液压道呈U型，所述传动液压道远离压力传动液压杆的另一端内竖直方向设置有一按摩盖顶杆，所述按摩盖顶杆上端伸出浴盆体外且贯穿足浴盆，并与足背按摩盖的凸起板接触。