[发明专利]一种便于清洁全面按摩的足疗盆

权利要求书

1.一种便于清洁全面按摩的足疗盆，包括浴盆体(10)，其特征在于，所述浴盆体(10)一侧水平方向设置有排水管夹(19)，所述浴盆体(10)外在排水管夹(19)下方设置有用于排水的放水管(11)，所述放水管(11)上端被排水管夹(19)夹住，所述浴盆体(10)远离放水管(11)一侧开设有足疗槽，所述足疗槽内安装有足浴盆(13)，所述足浴盆(13)中间设置有用于对两只脚限位的分隔带(56)，所述分隔带(56)内开设有放置药包的药包槽(57)，所述分隔带(56)两侧分别对称设置有一足背按摩盖(15)，所述足背按摩盖(15)一侧设置有凸起板，所述足浴盆(13)远离水加热室(22)一侧下端面两侧对称竖直方向设置有下水管(61)，所述下水管(61)上端安装有水塞(62)。

2.根据权利要求1所述的一种便于清洁全面按摩的足疗盆，其特征在于，所述浴盆体(10)靠近排水管夹(19)一侧内开设有水加热室(22)，所述水加热室(22)下底面固定安装有加热器(21)，所述加热器(21)上方固定安装有监测水温的温度传感器(20)，所述温度传感器(20)与加热器(21)电性连接；所述水加热室(22)上方固定安装有(18)给控制面板和加热器(21)供电，所述水加热室(22)下底面外靠近排水管夹(19)一侧设置有排水阀(53)并与排水管夹(19)相连，所述水加热室(22)远离排水管夹(19)一侧下底面开设有水循环管(54)，所述水循环管(54)远离水加热室(22)一端分叉并分别套设在两个下水管(61)外且衔接处固定设置有密封圈(63)，所述水循环管(54)内设置有水循环泵(55)。

3.根据权利要求1所述的一种便于清洁全面按摩的足疗盆，其特征在于，所述足浴盆(13)上端两侧水平方向分别设置有一足浴盆封块(29)，每个所述足浴盆封块(29)下端两侧分别设置有封块滑轨(31)，每个所述封块滑轨(31)分别设置在足浴盆(13)上方两侧的滑槽内，且每个滑槽内分别设置有一复位弹簧，两个所述足浴盆封块(29)互相靠近一侧分别设置有一提手把(14)，所述远离排水管夹(19)一侧的提手把(14)靠近足浴盆封块(29)一侧设置有把手转动轴(26)，所述把手转动轴(26)与同侧的足浴盆封块(29)转动连接。

4.根据权利要求3所述的一种便于清洁全面按摩的足疗盆，其特征在于，靠近排水管夹(19)一侧的所述足浴盆封块(29)下分竖直方向设置有一压力传动液压杆(30)，所述压力传动液压杆(30)下端伸入浴盆体(10)内，且压力传动液压杆(30)伸入浴盆体(10)端外套设有传动液压道(32)，所述传动液压道(32)呈U型，所述传动液压道(32)远离压力传动液压杆(30)的另一端内竖直方向设置有一按摩盖顶杆(33)，所述按摩盖顶杆(33)上端伸出浴盆体(10)外且贯穿足浴盆(13)，并与足背按摩盖(15)的凸起板接触。

5.根据权利要求1所述的一种便于清洁全面按摩的足疗盆，其特征在于，每个所述足背按摩盖(15)靠近排水管夹(19)一侧下方分别固定设置有一足背按摩盖转轴(25)，每个所述足背按摩盖转轴(25)与下方的足浴盆(13)转动连接；所述足背按摩盖(15)内开设有可容纳脚的空腔，所述足背按摩盖(15)空腔上端面矩形阵列设置有十八个足背按摩轴(23)，每个所述足背按摩盖(15)靠近水加热室(22)一侧在水循环管(54)上方开设有蒸汽口(24)，每个所述蒸汽口(24)内分别安装有一蒸汽管(12)并与水加热室(22)固定连接。

6.根据权利要求4所述的一种便于清洁全面按摩的足疗盆，其特征在于，每个所述足背按摩盖(15)下方分别开设有一按摩器空腔(44)，每个所述按摩器空腔(44)上方分别设置有按摩软布(58)，每个所述按摩软布(58)下方分别设置有一按摩器横杆(59)，每个所述按摩器横杆(59)两侧分别开设有一圆孔，每个所述圆孔内分别竖直方向设置有一按摩器转轴(60)，每个所述按摩器转轴(60)上方分别固定设置有一按摩头(50)，每个所述按摩头(50)下方在按摩器转轴(60)外分别固定设置有一按摩器限位(51)防止坠落。