[发明专利]器件及其形成方法

权利要求书

1.一种器件，包括第一密封构件、第二密封构件、第一电路构件和第二电路构件，其特征在于：

所述第一密封构件基本上包括由薄膜形成的第一膜；

所述器件形成有封闭空间；

所述封闭空间由所述第一密封构件和所述第二密封构件所围成，并与所述器件外的外部空间隔绝；

所述第一电路构件和所述第二电路构件封闭于所述封闭空间内；

所述第一电路构件包括第一接触点；

所述第二电路构件包括第二接触点；

所述第一接触点与所述第二接触点彼此相互接触；

所述第一密封构件和所述第二密封构件中的至少一个设有凹凸部；以及

所述凹凸部与所述第一电路构件和所述第二电路构件中的至少一个相接触，并且覆盖与所述第一接触点和所述第二接触点中的至少一个相对应的预定区域。

2.如权利要求1所述的器件，其特征在于：

所述第一密封构件和所述第二密封构件中的至少一个包括附加膜；以及

所述附加膜具有所述凹凸部。

3.如权利要求1所述的器件，其特征在于：

所述第一膜设有空气阀；以及

所述凹凸部连续覆盖从所述空气阀延伸至所述预定区域的区域。

4.如权利要求3所述的器件，其特征在于：

所述第一密封构件具有第一内部和第一外部；

所述第一内部位于所述第一外部的内侧；

所述第二密封构件具有第二内部和第二外部；

所述第二内部位于所述第二外部的内侧；

所述封闭空间由所述第一内部和所述第二内部所围成；

所述第一外部具有第一密封部；

所述第二外部具有第二密封部；

所述第一密封部与所述第二密封部结合在一起来形成密封痕迹；以及

所述凹凸部被封闭在所述封闭空间内。

5.如权利要求1所述的器件，其特征在于：

所述第一密封构件具有第一内部和第一外部；

所述第一内部位于所述第一外部的内侧；

所述第二密封构件具有第二内部和第二外部；

所述第二内部位于所述第二外部的内侧；

所述封闭空间由所述第一内部和所述第二内部所围成；

所述第一外部具有第一密封部；

所述第二外部具有第二密封部；

所述第一密封部与所述第二密封部结合在一起来形成密封痕迹；以及

所述凹凸部连续覆盖从所述密封痕迹延伸至所述预定区域的区域。

6.如权利要求4所述的器件，其特征在于：

所述第一密封部和所述第二密封部通过热封结合在一起。

7.如权利要求6所述的器件，其特征在于：

所述第一密封构件和所述第二密封构件均包括由可熔化层和不可熔化层组成的两层，所述可熔化层通过热封可熔化，所述不可熔化层不能通过热封熔化。

8.如权利要求1所述的器件，其特征在于：

所述凹凸部完全覆盖与所述封闭空间相对应的区域。

9.如权利要求1所述的器件，其特征在于：

所述第二密封构件基本上包括由膜形成的第二膜。

10.如权利要求9所述的器件，其特征在于：

所述第一膜和所述第二膜是彼此重叠的单个膜构件的两个薄片；

所述膜构件具有预定部；以及

所述第一膜与所述第二膜在所述预定部彼此连接。

11.如权利要求10所述的器件，其特征在于：

所述膜构件是单个的平面片材；以及

所述第一膜和所述第二膜是在所述预定部处被折叠来彼此重叠的所述两个薄片。