[发明专利]半导体工艺设备在审

专利信息
申请号: 202111212172.1 申请日: 2021-10-18
公开(公告)号: CN113972153A 公开(公告)日: 2022-01-25
发明(设计)人: 韩兴;宋新丰;杨帅 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 施敬勃
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 半导体 工艺设备
【权利要求书】:

1.一种半导体工艺设备,其特征在于,包括装载腔室(100)和密封装置,所述装载腔室(100)的腔室壁(110)上具有开口,所述密封装置用于对所述开口密封,所述密封装置包括密封门组件(200)、支撑架(300)、第一驱动机构(400)和第二驱动机构(500),其中:

所述支撑架(300)设于所述密封门组件(200),所述第一驱动机构(400)与所述支撑架(300)连接,用于驱动所述支撑架(300)移动,以使所述支撑架(300)带动所述密封门组件(200)移动至与所述开口相对或错位的位置;

所述第二驱动机构(500)设于所述支撑架(300),且与所述密封门组件(200)连接,所述第二驱动机构和所述密封门组件(200)间距可调,所述密封门组件(200)通过调整所述第二驱动机构(500)与所述密封门组件(200)的间距,以调整与所述支撑架(300)的平行度;

在所述密封门组件(200)与所述开口相对时,所述第二驱动机构(500)用于驱动所述密封门组件(200)远离所述支撑架(300),以使所述密封门组件(200)压紧所述腔室壁(110)。

2.根据权利要求1所述的半导体工艺设备,其特征在于,所述第二驱动机构(500)为流体驱动系统,所述流体驱动系统包括缸体(510)和活塞杆(520),所述支撑架(300)上设有避让孔,所述活塞杆(520)部分设于所述缸体(510)内,且远离所述缸体(510)的一端穿过所述避让孔与所述密封门组件(200)连接,所述缸体(510)固定连接于所述支撑架(300)。

3.根据权利要求2所述的半导体工艺设备,其特征在于,所述活塞杆(520)远离所述缸体(510)的一端与所述密封门组件(200)螺纹连接。

4.根据权利要求2所述的半导体工艺设备,其特征在于,所述密封门组件(200)与所述支撑架(300)相对的一侧设有凸台(230),所述凸台(230)用于与所述活塞杆(520)远离所述缸体(510)的一侧连接。

5.根据权利要求2所述的半导体工艺设备,其特征在于,所述活塞杆(520)位于所述支撑架(300)和所述密封门组件(200)之间的部位套设有第一限位螺母(521)和第二限位螺母(522),所述第一限位螺母(521)和所述第二限位螺母(522)分别用于抵接于所述支撑架(300)和所述密封门组件(200)。

6.根据权利要求2所述的半导体工艺设备,其特征在于,所述流体驱动系统为多个,多个所述流体驱动系统间隔的设于所述支撑架(300)。

7.根据权利要求1所述的半导体工艺设备,其特征在于,所述密封装置还包括门框(600),所述门框(600)设于所述腔室壁(110),且围绕所述开口,所述第一驱动机构(400)设于所述门框(600),所述支撑架(300)背离所述密封门组件(200)的一侧与所述门框(600)滑动连接,所述第一驱动机构(400)用于驱动所述支撑架(300)沿所述门框(600)滑动。

8.根据权利要求7所述的半导体工艺设备,其特征在于,所述门框(600)包括相对设置的两个滑动轴(610),所述滑动轴(610)的延伸方向与所述第一驱动机构(400)驱动所述支撑架(300)移动的方向一致,所述支撑架(300)的与所述滑动轴(610)相对的两边设有固定连接的滑动块(310),所述滑动块(310)套设于所述滑动轴(610)。

9.根据权利要求8所述的半导体工艺设备,其特征在于,所述门框(600)还包括相对设置的两个固定梁(620),所述两个固定梁(620)和所述两个滑动轴(610)围成框架结构,所述两个固定梁(620)与所述腔室壁(110)固定连接,且支撑所述两个滑动轴(610),以使所述支撑架(300)带动所述密封门组件(200)在沿所述滑动轴(610)移动时与所述腔室壁(110)具有间隙。

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