[发明专利]一种自晶圆背面切割晶圆的方法及系统在审

专利信息
申请号: 202111211917.2 申请日: 2021-10-18
公开(公告)号: CN113948383A 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 张中;潘明东;陈益新 申请(专利权)人: 江苏芯德半导体科技有限公司
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;H01L21/67;B24B37/00
代理公司: 无锡华越知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32571 代理人: 苏霞
地址: 210000 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 背面 切割 方法 系统
【说明书】:

发明公开了一种自晶圆背面切割晶圆的方法及系统,该方法具体包括以下步骤:(1)将晶圆研磨减薄后,将晶圆正面朝上置于贴片平台的固定环中,在晶圆正面覆盖膜,以完成贴片;(2)取下所述步骤(1)中贴片后的晶圆,去除多余的膜后,将晶圆正面朝下置于切割平台上;(3)所述晶圆背面上方设有IR相机,所述IR相机连接控制器,所述IR相机对准晶圆背面拍摄图像,并将图像发送给控制器,所述控制器解析所述图像获得晶圆背面的图形,所述图形即对应晶圆正面的切割道;(4)根据步骤(3)所得晶圆背面的图形进行切割晶圆。本发明公开的自晶圆背面切割晶圆的方法提高了晶圆的产能。

技术领域

本发明属于半导体封装技术领域,特别涉及一种自晶圆背面切割晶圆的方法及系统。

背景技术

随着半导体工艺的发展,芯片的集成度越来越高。晶圆包含相对的正面和背面,正面刻有纵向切割道和横向切割道,切割道围成的最小单元即为芯片。在半导体封装过程中,需要先将晶圆切割成一个个单颗芯片,然后将这些芯片做成不同的半导体封装结构。因此,晶圆切割是半导体封装工艺中的关键制程。

而扇出晶圆级封装(fowlp)技术由于具有小型化、低成本和高集成度等优点,以及具有更好的性能和更高的能源效率,扇出晶圆级封装(fowlp)技术已成为高要求的移动/无线网络等电子设备的重要的封装方法,是目前最具发展前景的封装技术之一。

在利用扇出晶圆级封装(fowlp)技术进行芯片封装时,则要求将切割获得的单颗芯片正面朝下倒装(Flip chip Face down)于载板表面。因为切割道设置在晶圆正面,晶圆背面不显示切割道。因此,现有技术中针对晶圆的切割,几乎都是晶圆正面朝上再进行切割作业。也就是说,在利用扇出晶圆级封装(fowlp)技术进行芯片封装时,切割晶圆后的贴片过程中都需要将芯片经过翻转,然后才能进行贴片。晶圆进行翻转和交接动作,浪费了设备的产能,耽误了晶圆的加工时间,降低了晶圆的产能。另外,在晶圆翻转和交接过程中,还存在芯片位置容易偏移、芯片表面容易擦伤及芯片受外来物影响脏污的问题。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术中存在的上述不足,提供一种自晶圆背面切割晶圆的新方法,该方法切割晶圆后,无需翻转晶圆即可继续进行后续贴片过程。

为实现上述目的,本发明提供了一种自晶圆背面切割晶圆的方法,该方法具体包括以下步骤:

(1)将晶圆研磨减薄后,将晶圆正面朝上置于贴片平台的固定环中,在晶圆正面覆盖膜,以完成贴片;

(2)取下所述步骤(1)中贴片后的晶圆,去除多余的膜后,将晶圆正面朝下置于切割平台上;

(3)所述晶圆背面上方设有IR相机,所述IR相机连接控制器,所述IR相机对准晶圆背面拍摄图像,并将图像发送给控制器,所述控制器解析所述图像获得晶圆背面的图形,所述图形即对应晶圆正面的切割道;

(4)根据步骤(3)所得晶圆背面的图形进行切割晶圆。

在一些实施方式中,步骤(1)中对晶圆贴片后,用滚轮匀速滚过。使膜和产品结合密切。

在一些实施方式中,膜根据晶圆厚度和晶圆正面金属线路厚度确定。选择合适的膜能够提高晶圆贴片质量。

在一些实施方式中,步骤(3)中IR相机成像前需调整灯光强度。

在一些实施方式中,步骤(4)中切割晶圆时根据切割道宽度确定合适的刀片。

在一些实施方式中,IR相机采用InGaAs红外相机。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏芯德半导体科技有限公司,未经江苏芯德半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111211917.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top