[发明专利]具有预制结构的镀膜和粉体及其制备方法

说明书

本发明涉及一种具有预制结构的镀膜和粉体及其制备方法。该镀膜的制备方法包括：提供基材和具有微纳结构的微纳纹理模板；在基材上施加转印UV胶；通过UV转印将微纳纹理模板施加在转印UV胶上，再通过UV固化制备过渡胶层，移除微纳纹理模板，制备中间体；采用功能材料在具有微纳结构的基材的表面上仿形沉积制备过渡分离层，或直接采用功能材料制作微纳纹理中间体过渡分离层，再采用镀层材料在过渡分离层上仿形沉积制备镀层；或采用镀层材料在具有微纳结构的基材的表面上仿形沉积制备镀层。该方法具有操作简易、微纳结构形貌可控、低成本、长效、可大批量应用的优点，具有广阔的应用前景。

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，特别是涉及一种具有预制结构的镀膜和粉体及其 制备方法。

背景技术

镀膜是一种在物体的表面形成装饰薄膜或功能薄膜的技术，其主要包括蒸发 镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。在手机、数码相机、电脑、手表、眼镜架、五金、 小饰品等的生产过程中，为了增加产品外观的靓丽程度或防伪，需要在该类产品 的表面通过镀膜的方式形成包括任意形状的商标、美术、图形或文字等图案，或 需要特殊光学特征来标识独特地方。

但目前，装饰及防伪油墨用膜层或粉体多以平面及片状为主，缺少结构组合 效果，类型简单，独特性缺失。

发明内容

基于此，本发明的目的在于提供一种具有预制结构的镀膜和粉体及其制备方 法。

技术方案如下：

一种具有预制结构的镀膜的制备方法，包括如下步骤：

提供基材和具有微纳米尺寸的三维立体结构的微纳纹理模板；

在所述基材上施加转印UV胶；

通过UV转印将所述微纳纹理模板施加在所述转印UV胶上，再通过UV固 化制备过渡胶层，移除所述微纳纹理模板，制备具有微纳米尺寸的三维立体结构 的中间体；

采用镀层材料在具有微纳米尺寸的三维立体结构的所述中间体的表面上仿 形沉积制备镀层。

在其中一个实施例中，在制备所述镀层之前，采用功能材料在具有微纳米尺 寸的三维立体结构的所述中间体的表面上仿形沉积制备过渡分离层，再采用镀层 材料在所述过渡分离层上仿形沉积制备所述镀层。

在其中一个实施例中，所述镀层的层数≥2，所述过渡分离层的层数≥2，所 述镀层和所述过渡分离层呈交替设置。

在其中一个实施例中，所述功能材料选自水接触角为80°～130°的材料， 或水溶性材料，或油溶性材料，或振动分离材料，或热挥发材料，或热分解材料， 或水解材料，或油解材料。

在其中一个实施例中，所述的具有预制结构的镀膜的制备方法，其特征在于， 所述接触角为80°～130°的材料选自含氟化合物；所述水溶性材料选自有机水 溶物或无机水溶物，或两者混合物；所述油溶性材料选自油溶解性树酯；所述热 挥发材料选自低沸点有机材料；所述热分解材料选自易分解有机材料；所述水解 材料选自有机水分解物或无机水分解物，或两者混合物；或油解材料选自油分解 性树酯材料。

在其中一个实施例中，制备所述镀层所采用的镀层材料选自碱金属、碱土金 属、过渡元素、主族金属、镧系元素、锕系元素及这些金属的氮化物、碳化物、 氢化物、氧化物、氮氧化物、碳氮化物和硫化物中的一种或多种；

或制备所述镀层所采用的镀层材料选自Si、P、Ge、AS、Sb、B、Te和C及 这些非金属的氮化物、碳化物、氢化物、氧化物、氮氧化物、碳氮化物和硫化物 中的一种或多种。