[发明专利]具有预制结构的镀膜和粉体及其制备方法

权利要求书

1.一种具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供基材和具有微纳米尺寸的三维立体结构的微纳纹理模板；

在所述基材上施加转印UV胶；

通过UV转印将所述微纳纹理模板施加在所述转印UV胶上，再通过UV固化制备过渡胶层，移除所述微纳纹理模板，制备具有微纳米尺寸的三维立体结构的中间体；

采用镀层材料在具有微纳米尺寸的三维立体结构的所述中间体的表面上仿形沉积制备镀层，制得具有预制结构的镀膜；

对所述具有预制结构的镀膜进行粉碎处理，制备具有预制结构的粉体。

2.根据权利要求1所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，在制备所述镀层之前，采用功能材料在具有微纳米尺寸的三维立体结构的所述中间体的表面上仿形沉积制备过渡分离层，再采用镀层材料在所述过渡分离层上仿形沉积制备所述镀层。

3.根据权利要求2所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，所述镀层的层数≥2，所述过渡分离层的层数≥2，所述镀层和所述过渡分离层呈交替设置。

4.根据权利要求2所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，所述功能材料选自水接触角为80°～130°的材料，或水溶性材料，或油溶性材料，或振动分离材料，或热挥发材料，或热分解材料，或水解材料，或油解材料。

5.根据权利要求1至4任一项所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，制备所述镀层所采用的镀层材料选自碱金属、碱土金属、过渡元素、主族金属、镧系元素、锕系元素及这些金属的氮化物、碳化物、氢化物、氧化物、氮氧化物、碳氮化物和硫化物中的一种或多种；

或制备所述镀层所采用的镀层材料选自Si、P、Ge、AS、Sb、B、Te和C及这些非金属的氮化物、碳化物、氢化物、氧化物、氮氧化物、碳氮化物和硫化物中的一种或多种。

6.根据权利要求5所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，制备所述镀层所采用的镀层材料选自Al、Cr、Ti、Au、AG、Cu、W、V、Ni、Li、Na、K、Ca、Mo、Co、Mn、Ga、Rb、Cd、Ba、Cs、Pt、Ce、Sn、Zn、Ta、Zr、Nb、Mg、In和Y及这些金属的氮化物、碳化物、氢化物、氧化物、氮氧化物、碳氮化物、硫化物中的一种或多种。

7.根据权利要求5所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，还包括将所述镀层与所述中间体分离的步骤。

8.根据权利要求7所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，将所述镀层与所述中间体分离的方式为水相分离、油相分离、热分离、剥离和振动分离中的至少一种。

9.根据权利要求5所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，所述微纳米尺寸的三维立体结构呈有序排列结构和/或无序排列结构；

所述有序排列结构为点阵立体结构和线阵立体结构中的至少一种。

10.根据权利要求9所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，

仿形沉积的方式为化学液相沉积法、化学气相沉积法、磁控溅射法、蒸发镀膜法或DLC。

11.根据权利要求5所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，所述转印UV胶包含环氧丙烯酸酯、氨基丙烯酸酯、聚醚类树酯、丙烯酸类树酯、不饱和聚酯、醇类化合物、阳离子类树酯、环氧类树酯和有机硅类树酯中的至少一种。

12.根据权利要求1所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，粉碎处理的方式为振动粉碎、研磨粉碎或气流冲击粉碎。

13.根据权利要求1或12所述的具有预制结构的粉体的制备方法，其特征在于，在粉碎处理之后，还包括对具有预制结构的粉体进行分级筛分的步骤。