[发明专利]具有可控触发电压的超低泄漏静电放电器件在审

专利信息
申请号: 202111192202.7 申请日: 2021-10-13
公开(公告)号: CN114361155A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: A·纳特;Z·李;S·米特拉;A·卢瓦索;梁巍 申请(专利权)人: 格芯(美国)集成电路科技有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 贺月娇;牛南辉
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 可控 触发 电压 泄漏 静电 放电 器件
【权利要求书】:

1.一种静电放电ESD器件,包括:

输入衬垫;

具有触发电压Vt的欠重叠场效应晶体管UL-FET,其包括:

耦接至所述输入衬垫的欠重叠漏极区;

耦接至地的源极区;以及

耦接至所述输入衬垫的栅极结构;以及

阻挡层,其将所述UL-FET的所述欠重叠漏极区与所述栅极结构分隔开一欠重叠距离。

2.根据权利要求1所述的ESD器件,还包括用于选择性地激活所述UL-FET的切换FET。

3.根据权利要求1所述的ESD器件,还包括用于设定施加到所述UL-FET的所述栅极结构的栅电压Vg的分压器。

4.根据权利要求3所述的ESD器件,其中所述分压器还包括耦接至所述栅极结构和所述输入衬垫的电容器,所述电容器与所述UL-FET的本征栅极至源极电容串联。

5.根据权利要求1所述的ESD器件,其中所述UL-FET还包括形成在所述欠重叠漏极区与所述源极区之间的触发路径TP。

6.根据权利要求5所述的ESD器件,还包括耦接至所述UL-FET的放电器件,其用于响应于ESD事件而沿着从所述输入衬垫到地的放电路径DP释放ESD电流。

7.根据权利要求6所述的ESD器件,其中所述放电器件包括npn器件或可控硅整流器器件。

8.根据权利要求1所述的ESD器件,其中所述UL-FET的所述触发电压Vt由以下至少一项控制:

施加到所述栅极结构的栅电压Vg;

耦接至所述栅极结构和所述输入衬垫的电容器的电容;以及

所述欠重叠漏极区与所述栅极结构之间的所述欠重叠距离。

9.一种用于静电放电ESD保护的方法,包括:

将ESD器件耦接至要保护的电路,所述ESD器件包括具有欠重叠漏极区的欠重叠场效应晶体管UL-FET;以及

使用以下至少一项来控制所述UL-FET的触发电压:

施加到所述UL-FET的栅极结构的栅电压Vg;

耦合在所述UL-FET的所述栅极结构与输入衬垫之间的电容器的电容;以及

所述UL-FET的所述欠重叠漏极区与所述FET的所述栅极结构之间的欠重叠距离。

10.根据权利要求9所述的方法,还包括使用切换FET选择性地激活所述UL-FET。

11.根据权利要求9所述的方法,还包括使用分压器设定施加到所述UL-FET的所述栅极结构的所述栅电压Vg,所述分压器由耦接至所述栅极结构和所述输入衬垫的所述电容器和所述UL-FET的本征栅极至源极电容的串联连接形成。

12.根据权利要求9所述的方法,还包括将放电器件耦接至所述UL-FET,以响应于ESD事件而沿着从所述输入衬垫到地的放电路径DP释放ESD电流。

13.一种静电放电ESD器件,包括:

输入衬垫;

具有触发电压Vt的欠重叠的n型场效应晶体管UL-NFET,其包括:

形成在p阱中并耦接至所述输入衬垫的欠重叠的n+掺杂漏极区;

形成在所述p阱中并耦接至地的n+掺杂源极区;以及

耦接至所述输入衬垫的栅极结构;以及

硅化物阻挡层,其将所述UL-NFET的所述欠重叠的n+掺杂漏极区与所述栅极结构分隔开一欠重叠距离。

14.根据权利要求13所述的ESD器件,还包括用于选择性地激活所述UL-NFET的切换FET。

15.根据权利要求13所述的ESD器件,还包括用于设定施加到所述UL-NFET的所述栅极结构的栅电压Vg的分压器。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格芯(美国)集成电路科技有限公司,未经格芯(美国)集成电路科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111192202.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top