[发明专利]基于光纤的光学高精度验电装置及系统有效
| 申请号: | 202111180145.0 | 申请日: | 2021-10-09 |
| 公开(公告)号: | CN113917221B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
| 发明(设计)人: | 宋婷婷;解宜原;叶逸琛;杨德刚;张万里;廖镁娇 | 申请(专利权)人: | 重庆师范大学 |
| 主分类号: | G01R19/15 | 分类号: | G01R19/15 |
| 代理公司: | 重庆萃智邦成专利代理事务所(普通合伙) 50231 | 代理人: | 许攀 |
| 地址: | 401331 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 光纤 光学 高精度 装置 系统 | ||
本发明涉及基于光纤的光学高精度验电装置及系统,主要涉及电荷检测领域。本申请提供一种基于光纤的光学高精度验电装置,包括:遮光盒、第一薄膜、第二薄膜、固定部、导电端和光纤;在需要对待测位置的待测电荷量进行检测时,待测电荷通过该导电端进入到该固定部,并进一步的将电荷导入到该第一薄膜和第二薄膜上,第一薄膜和第二薄膜在同性电荷的斥力的作用下发生偏转,使得该第一薄膜和第二薄膜之间的夹角发生改变,从而改变该第一薄膜和第二薄膜之间的光信号的反射情况,进而使得反射回光纤的光信号的强度发生改变,通过对前后光信号的强度的变化进行计算,并根据光信号的强度的变化情况与待测电荷量的对应关系,得到待测电荷量。
技术领域
本发明涉及电荷检测领域,主要涉及一种基于光纤的光学高精度验电装置及系统。
背景技术
验电装置是用于检测电流的电荷量的装置,并且进一步检测电流或者电荷量大小的装置,现有技术一般采用,电流、电压和电阻的对应关系,通过检测电压和电阻,并通过计算,得到待测电流。
现有技术中,一般采用Q=It,其中Q表示电荷量,I表示电流大小,t表示时间,通过获取电流大小与时间的乘积,表示待测电荷量的大小。
但是,由于现有技术需要获取到的电流受到电压和电阻的影响,并且电压和电阻在检测的过程中受到的影响因素较多,进而使得计算得到的电荷量中存在误差,进而使得最终得到的电荷量不准确。
发明内容
本发明的目的在于,针对上述现有技术中的不足,提供一种基于光纤的光学高精度验电装置及系统,以解决现有技术中需要获取到的电流受到电压和电阻的影响,并且电压和电阻在检测的过程中受到的影响因素较多,进而使得计算得到的电荷量中存在误差,进而使得最终得到的电荷量不准确的问题。
为实现上述目的,本发明实施例采用的技术方案如下:
第一方面,本申请提供一种基于光纤的光学高精度验电装置,装置包括:遮光盒、第一薄膜、第二薄膜、固定部、导电端和光纤;第一薄膜、第二薄膜和固定部均设置在遮光盒内部,导电端50的一端垂直贯穿遮光盒10的外壁伸入到遮光盒10内部,另一端设置在遮光盒10的外部,固定部与遮光盒内部的导电端的一端连接,第一薄膜和第二薄膜的一端均与固定部可转动连接,光纤一端设置在遮光盒外部,另一端穿过遮光盒的壁与第二薄膜对应设置,光纤用于将光信号传递到第二薄膜的表面,并接收第二薄膜出射的光信号。
可选地,该装置还包括伸缩部,伸缩部连接在第一薄膜和第二薄膜之间,且伸缩部的材料为电致伸缩材料。
可选地,该第二薄膜靠近第一薄膜的一侧设置有多个锥形凸起。
可选地,该装置还包括石墨烯层,石墨烯层设置在多个锥形凸起表面。
可选地,该第二薄膜靠近第一薄膜的一侧的表面为褶皱状表面。
可选地,该第一薄膜靠近第二薄膜的一侧设置有多个锥形凸起。
可选地,该第一薄膜为导电膜,第二薄膜为贵金属膜。
第二方面,本申请提供的一种基于光纤的光学高精度验电系统,系统包括:光强检测装置、计算机和第一方面任意一项的基于光纤的光学高精度验电装置,光强检测装置与装置的光纤远离第二薄膜的一端连接,用于接收反射光信号的光强,计算机根据反射光信号的光强与待测电荷量的对应关系,得到待测电荷量。
本发明的有益效果是:
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