[发明专利]一种防眩光玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

对玻璃基材一侧进行防眩光处理，在所述玻璃基材上形成晶型颗粒；

对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂；

对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，所述玻璃基材上未覆盖光阻剂的部分被蚀刻；

退镀光阻剂，清洗，即得；

其中，所述玻璃基材经防眩光处理后，粗糙度为250-350nm，雾度为30-80％；对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻时，蚀刻深度1＜H≤2C；所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂所形成的图案为无规则分布的无规则条形图案，无规则条形图案的长度为50um-200um；条形图案间距为100um-300um。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，对玻璃基材一侧进行防眩光处理，具体包括以下步骤：

在玻璃基材一侧形成保护油墨层；

第一超声清洗；

对玻璃基材远离保护油墨层的一侧，利用AG药剂进行蒙砂处理，然后使用氢氟酸进行化学抛光处理；

第二超声清洗。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述AG药剂具体为电子蚀刻粉，蒙砂处理的时间为60-90s，蒙砂处理的温度为28-32℃；

化学抛光所用的氢氟酸的质量百分浓度为3-6％，化学抛光处理的时间为2-6min，化学抛光处理温度为28-32℃。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂具体为：光阻剂使用感光油墨，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧形成感光油墨层，然后利用具有图案的光罩，对感光油墨层进行曝光、显影，使玻璃基材表面保留的感光油墨形成图案。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述感光油墨层的厚度为5-15μm；和/或，

所述曝光步骤具体为：用紫外光曝光油墨，曝光能量UVA≥50mw/cm²，时间1-3s；和/或，

使用碳酸钠显影液进行显影，所述碳酸钠显影液的电导率为12±0.5ms/cm，显影时间为40-80s。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，使用氢氟酸对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，氢氟酸的质量百分浓度为3-4％，蚀刻的温度为28-32℃，蚀刻的时间为4-8min。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，使用碱性退镀液退镀光阻剂，退镀的温度为65-75℃，退镀的时间为20-40min。

8.使用权利要求1-7中任一项所述的制备方法制得的防眩光玻璃。