[发明专利]半导体封装在审

专利信息
申请号: 202111134034.6 申请日: 2021-09-27
公开(公告)号: CN114300440A 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 赵殷奭;M.古;金俊成;崔在薰 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L23/528 分类号: H01L23/528
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 屈玉华
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装
【说明书】:

一种半导体封装包括:基底基板,包括布线图案;中介层基板,包括下再分布图案和上再分布图案;半导体结构;散热结构;多个外连接凸块,设置在基底基板的下表面上;多个下连接凸块,设置在基底基板和中介层基板之间;以及多个上连接凸块,设置在中介层基板和半导体结构之间。

技术领域

本公开的实施方式涉及半导体封装。

背景技术

根据半导体芯片的高性能化趋势,在半导体封装领域,正在开发用于在大面积封装基板上安装多个半导体芯片的系统级封装(SIP)技术。在这种情况下,需要在用于大面积封装的基板上形成用于半导体芯片的精细凸块节距的布线的技术。

发明内容

根据本公开的方面,提供了具有降低的制造成本和优异的产率的半导体封装。

根据一个或更多个实施方式,提供了一种半导体封装。该半导体封装包括:基底基板,具有彼此相反的上表面和下表面,并包括布线图案;中介层基板,设置在基底基板的上表面上,并具有彼此相反的上表面和下表面,并且包括电连接到布线图案的至少一个下再分布图案,并且还包括设置在所述至少一个下再分布图案上并电连接到所述至少一个下再分布图案的至少一个上再分布图案;半导体结构,设置在中介层基板的上表面上,并电连接到所述至少一个上再分布图案;散热结构,设置在基底基板的上表面上,并覆盖中介层基板和半导体结构;多个外连接凸块,设置在基底基板的下表面上,并连接到布线图案;多个下连接凸块,设置在基底基板和中介层基板之间,并连接布线图案和所述至少一个下再分布图案;以及多个上连接凸块,设置在中介层基板和半导体结构之间,并连接所述至少一个上再分布图案和半导体结构。所述多个外连接凸块当中的彼此相邻的一对外连接凸块之间的距离在0.8mm至1.5mm的范围内,所述多个下连接凸块当中的彼此相邻的一对下连接凸块之间的距离在0.1mm至0.7mm的范围内,所述多个上连接凸块当中的彼此相邻的一对上连接凸块之间的距离在50μm至150μm的范围内。

根据一个或更多个实施方式,提供了一种半导体封装。该半导体封装包括:基底基板,包括布线图案;中介层基板,包括设置在不同层级上并电连接到布线图案的多个下再分布图案,并且还包括电连接到所述多个下再分布图案的多个上再分布图案,中介层基板设置在基底基板上;以及半导体结构,设置在中介层基板上,并电连接到所述多个上再分布图案。所述多个上再分布图案当中的最上面的上再分布图案包括从中介层基板的上表面突出的上连接焊盘,所述多个上再分布图案中的设置在上连接焊盘下方的至少一个上再分布图案包括与上连接焊盘重叠的着落焊盘,上连接焊盘的最大宽度小于着落焊盘的最大宽度。

根据一个或更多个实施方式,提供了一种半导体封装。该半导体封装包括:基底基板,包括布线图案;中介层基板,包括电连接到布线图案的多个下再分布图案,并且还包括电连接到所述多个下再分布图案的多个上再分布图案,中介层基板设置在基底基板上;以及半导体结构,设置在中介层基板上,并电连接到所述多个上再分布图案。所述多个下再分布图案和所述多个上再分布图案在第一方向上延伸,所述多个下再分布图案在垂直于第一方向的第二方向上的线宽在7μm至20μm的范围内,所述多个上再分布图案在第二方向上的线宽在5μm至10μm的范围内。所述多个下再分布图案当中的设置在同一层级上并在第二方向上彼此相邻的一对下再分布图案之间的距离在10μm至20μm的范围内,所述多个上再分布图案当中的设置在同一层级上并在第二方向上彼此相邻的一对上再分布图案之间的距离在5μm至10μm的范围内。

附图说明

本公开的实施方式的以上及其他方面、特征和优点将由以下结合附图的详细描述被更清楚地理解,附图中:

图1A是示出根据本公开的示例实施方式的半导体封装的截面图;

图1B是示出根据本公开的示例实施方式的半导体封装的平面图;

图1C是根据本公开的示例实施方式的半导体封装的局部放大截面图;

图2A是示出图1A的基底基板的第一修改示例的截面图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111134034.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top